低环体含量聚硅氧烷的制备方法

    公开(公告)号:CN118063775B

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202410455637.3

    申请日:2024-04-16

    IPC分类号: C08G77/04 C08G77/08

    摘要: 本发明涉及有机硅聚合物技术领域,公开了低环体含量聚硅氧烷的制备方法,包括以下步骤:以线性体起始剂作为原料,同源共轭酸作为催化剂,两种原料按照比例进行混合,生成环体含量低于300ppm的聚硅氧烷;其中,线性体起始剂采用α,ω‑端羟基线性聚硅氧烷;同源共轭酸采用路易斯酸与有机碱的共轭配制;路易斯酸与有机碱的摩尔比为0.5‑3:1,本发明采用同源共轭路易斯酸作为线性缩合聚合催化剂,使在聚合过程中的“反咬”成环现象受到极大遏制,采用本发明的同源共轭酸作催化剂,在控制好反应温度和反应时间的情况下,可以高效的生产出环体含量极低甚至不含环体的线性缩合硅氧烷聚合物。

    一种适用于多体态的离心式真空过滤器

    公开(公告)号:CN116272092B

    公开(公告)日:2023-07-21

    申请号:CN202310526633.5

    申请日:2023-05-11

    摘要: 本发明涉及真空过滤器技术领域,且公开了一种适用于多体态的离心式真空过滤器,包括箱体;真空机构,用于对箱体内部进行持续抽真空;滤化机构,用于对箱体内投入的物体进行过滤;调节机构,用于调节滤化机构内部的孔隙;动力机构,用于驱动真空机构以及滤化机构的运行。该适用于多体态的离心式真空过滤器,设置的滤化机构和调节机构,能够实现对内部物体的离心式旋转以及上下式的过滤,离心式的过滤是对液体、固液状态以及液气状态的物体进行过滤,而上下运动方式则是对固体状态的物品进行上下抖动式过滤,从而能够实现多种结构形态的过滤,提高设备整体的适用性和通配性,减少设备的投入,进而减少成本的投入。

    一种空压机的动态消音装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116085232A

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202310329036.3

    申请日:2023-03-30

    IPC分类号: F04B39/00 F04B39/06 F04B39/12

    摘要: 本发明涉及空压机的降噪技术领域,且公开了一种空压机的动态消音装置,包括外箱体;进气消音机构,用于对空压机主体的进气位置进行消音降噪;出气消音机构,用于对空压机主体的出气位置进行消音降噪;缓冲机构,用于对空压机主体进行减震缓冲;所述外箱体的内部设置有液态水,且空压机主体设置在外箱体内部的液态水中。该空压机的动态消音装置,首先通过将整体的空压机主体半设置在液态水中,实现震动降噪,因为水的包裹性,当空压机运行产生震动,首先会作用在水上,而水的阻力又相对较大,并且不会伤害到空压机的主体,以此实现震动缓冲降噪,实现消音的效果。

    一种高压反应釜内腔的除垢涂覆设备

    公开(公告)号:CN116727189B

    公开(公告)日:2023-11-10

    申请号:CN202311009287.X

    申请日:2023-08-11

    摘要: 本发明涉及反应釜的除垢技术领域,且公开了一种高压反应釜内腔的除垢涂覆设备,包括釜体;除垢涂覆组件,用于对釜体的内壁进行杂质处理以及对釜体的内壁进行防护膜涂覆;切换组件;驱动组件,用于提供除垢涂覆组件的运行以及釜体内混合的运行;所述驱动组件通过切换组件与除垢涂覆组件连接。该高压反应釜内腔的除垢涂覆设备,通过驱动组件控制切换组件的运作,当电机转动方向不同,将会自动与除垢涂覆组件进行连接和脱离,并且带动其进行上下位置的滑动,进而对反应釜的内壁杂质进行自动清理,并且对反应釜的内壁进行镀膜涂覆,基本脱离了人工的操作,使得除垢涂覆的效率更高,效果更佳,并且对釜内的正常混合也不会产生干涉。

    一种高压反应釜内腔的除垢涂覆设备

    公开(公告)号:CN116727189A

    公开(公告)日:2023-09-12

    申请号:CN202311009287.X

    申请日:2023-08-11

    摘要: 本发明涉及反应釜的除垢技术领域,且公开了一种高压反应釜内腔的除垢涂覆设备,包括釜体;除垢涂覆组件,用于对釜体的内壁进行杂质处理以及对釜体的内壁进行防护膜涂覆;切换组件;驱动组件,用于提供除垢涂覆组件的运行以及釜体内混合的运行;所述驱动组件通过切换组件与除垢涂覆组件连接。该高压反应釜内腔的除垢涂覆设备,通过驱动组件控制切换组件的运作,当电机转动方向不同,将会自动与除垢涂覆组件进行连接和脱离,并且带动其进行上下位置的滑动,进而对反应釜的内壁杂质进行自动清理,并且对反应釜的内壁进行镀膜涂覆,基本脱离了人工的操作,使得除垢涂覆的效率更高,效果更佳,并且对釜内的正常混合也不会产生干涉。

    紫外光-湿气固化丙烯酸-巯基改性有机硅组合物及应用

    公开(公告)号:CN115838584A

    公开(公告)日:2023-03-24

    申请号:CN202211715150.1

    申请日:2022-12-29

    发明人: 蘧建星 张飞 姚磊

    摘要: 本发明公开了紫外光‑湿气固化丙烯酸‑巯基改性有机硅组合物,包括组分A直链有机聚硅氧烷,分子中含有至少两个具有2至18个碳原子的不饱和碳碳双键,不含硫醇基烷烃基,组分B有机聚硅氧烷,分子中具有硫醇基烷烃基,其与组分A中碳碳双键的摩尔比为(0.15‑3.5):1,组分C支链有机聚硅氧烷,包含式R3SiO3/2表示的硅氧烷单元和/或式SiO4/2表示的硅氧烷单元,二者摩尔比至少为0.5:1,不包括不饱和双键和硫醇基烷烃基,组分D含有机磷化合物的光自由基引发剂,组分E受阻酚化合物引发助剂。本发明通过长波长光照射快速固化,在室温和低温下具有优异的储存稳定性和涂布性,且即使在高温和高湿度条件下也能保持透明度,混浊或变色最小。

    三组分发泡有机硅胶粘剂组合物及其用途

    公开(公告)号:CN109749697A

    公开(公告)日:2019-05-14

    申请号:CN201910033389.2

    申请日:2019-01-14

    摘要: 本申请公开了一种三组分发泡有机硅胶粘剂组合物及其用途。该三组分发泡有机硅胶粘剂组合物,包括质量比为1:1:1的基胶组分A、基胶组分B和基胶组分C,所述基胶组分A包括40-80%重量份的一种或多种端羟基聚二甲基硅氧烷、5-40%重量份的甲基硅油、1-10%重量份的气相二氧化硅和10-100ppm铂金质量份的催化剂;所述基胶组分B包括20-60%重量份的含烷氧基和羟基有机硅树脂中间体、1-20%重量份的乙烯基三甲氧基硅烷和20-90%重量份的甲基硅油;所述基胶组分C包括5-40%重量份的甲基硅油、40-80%重量份的一种或多种端乙烯基硅油、5-30%重量份的高含氢硅油和1-10%重量份的气相二氧化硅。该三组分发泡有机硅胶粘剂组合物性能优异,应用范围广。

    低环体含量聚硅氧烷的制备方法

    公开(公告)号:CN118063775A

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN202410455637.3

    申请日:2024-04-16

    IPC分类号: C08G77/04 C08G77/08

    摘要: 本发明涉及有机硅聚合物技术领域,公开了低环体含量聚硅氧烷的制备方法,包括以下步骤:以线性体起始剂作为原料,同源共轭酸作为催化剂,两种原料按照比例进行混合,生成环体含量低于300ppm的聚硅氧烷;其中,线性体起始剂采用α,ω‑端羟基线性聚硅氧烷;同源共轭酸采用路易斯酸与有机碱的共轭配制;路易斯酸与有机碱的摩尔比为0.5‑3:1,本发明采用同源共轭路易斯酸作为线性缩合聚合催化剂,使在聚合过程中的“反咬”成环现象受到极大遏制,采用本发明的同源共轭酸作催化剂,在控制好反应温度和反应时间的情况下,可以高效的生产出环体含量极低甚至不含环体的线性缩合硅氧烷聚合物。

    一种适用于多体态的离心式真空过滤器

    公开(公告)号:CN116272092A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310526633.5

    申请日:2023-05-11

    摘要: 本发明涉及真空过滤器技术领域,且公开了一种适用于多体态的离心式真空过滤器,包括箱体;真空机构,用于对箱体内部进行持续抽真空;滤化机构,用于对箱体内投入的物体进行过滤;调节机构,用于调节滤化机构内部的孔隙;动力机构,用于驱动真空机构以及滤化机构的运行。该适用于多体态的离心式真空过滤器,设置的滤化机构和调节机构,能够实现对内部物体的离心式旋转以及上下式的过滤,离心式的过滤是对液体、固液状态以及液气状态的物体进行过滤,而上下运动方式则是对固体状态的物品进行上下抖动式过滤,从而能够实现多种结构形态的过滤,提高设备整体的适用性和通配性,减少设备的投入,进而减少成本的投入。