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公开(公告)号:CN221740437U
公开(公告)日:2024-09-20
申请号:CN202420138089.7
申请日:2024-01-19
Applicant: 江苏集芯半导体硅材料研究院有限公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/32 , C23C16/458 , C23C16/46 , C23C16/52
Abstract: 本实用新型公开了一种碳基材料表面制备碳化钽涂层的装置,包括:炉体,炉体内限定形成反应室,反应室的侧壁沿周向安装有加热件一,反应室内可拆卸固定有反应坩埚,反应坩埚内侧壁从上到下间隔固定有多组载台支架,每组载台支架包括多个载台支架一,每组的多个载台支架一呈环形间隔布置;蒸发器,蒸发器内部限定形成蒸发室,蒸发室设有钽源,蒸发器具有加热件二,蒸发器的一端设有连通至蒸发室的氩气接口和氯气接口,其另一端通过输气管一与混气室连通;混气箱,混气箱内限定形成混气室,混气箱靠近蒸发器的一端开设有连通至混气室的丙烯接口和氢气接口,混气箱具有加热件三,混气室远离蒸发器的一端通过输气管二与反应室连通。
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公开(公告)号:CN218196134U
公开(公告)日:2023-01-03
申请号:CN202221838190.0
申请日:2022-07-15
Applicant: 江苏集芯半导体硅材料研究院有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种用于晶棒的线切割系统,包括:切割头主体;夹紧底座,夹紧底座具有水平底面和竖直侧面,水平底面具有两个在第一方向上间隔开的限位销,竖直侧面设有两个在第一方向上间隔开的基准销;工件板,工件板的底部适于与晶棒相连,工件板的在第二方向上的另一侧侧壁设有止挡块;侧推气缸,侧推气缸设于夹紧底座,侧推气缸的输出端具有侧推挡块,侧推挡块在水平位置和竖直位置之间可转动,当侧推气缸锁紧工件板时,侧推挡块与工件板的另一侧侧壁和止挡块抵接。根据本实用新型的用于晶棒的线切割系统,在侧推气缸锁紧工件板时,可以增大侧推挡块与工件板的配合面积,有利于保证侧推气缸可靠锁紧工件板,同时可以防止工件板装反。
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公开(公告)号:CN217916169U
公开(公告)日:2022-11-29
申请号:CN202221861580.X
申请日:2022-07-19
Applicant: 江苏集芯半导体硅材料研究院有限公司
IPC: B28D5/00
Abstract: 本实用新型公开了一种碳化硅晶棒加工用切割装置,包括箱体和切割机构,还包括:放置机构,用于放置碳化硅晶棒,放置机构包括放置板,放置板位于箱体的上表面中部,放置板的上表面开设有弧形槽,弧形槽用于部分容纳碳化硅晶棒,弧形槽贯穿放置板的左、右端面,弧形槽的中心沿其长度方向开设有贯穿口,贯穿口与放置板的下表面连通;测量机构,用于对碳化硅晶棒切割的厚度进行测量,测量机构包括底板和滑动限位件,底板固定于箱体和放置机构之间,底板上表面沿长度方向设有与弧形槽相对应的刻度,滑动限位件位于推板与切割机构之间,滑动限位件用于限制碳化硅晶棒运动至指定刻度位置。本实用新型通过设置测量机构保证了碳化硅晶棒的厚度均匀,提高了实用性。
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公开(公告)号:CN217750941U
公开(公告)日:2022-11-08
申请号:CN202221644083.4
申请日:2022-06-29
Applicant: 江苏集芯半导体硅材料研究院有限公司
Abstract: 本实用新型公开了防止抛光液飞溅的抛光设备,包括设备主机箱,设备主机箱的顶面活动连接有抛光盘,抛光盘内部固定连接有立柱,立柱外表面活动套接有齿环,抛光盘内壁与齿环的外表面均开设有齿槽,抛光盘内部放置有多个抛光架,多个抛光架外表面均固定连接有齿块,抛光架外表面的齿块与抛光盘和齿环开设的齿槽相啮合,设备主机箱顶面固定连接有支撑架,支撑架顶面固定连接有气缸,气缸输出轴固定连接有电机,电机输出轴固定连接有连接盘,连接盘下方设置有转盘,转盘内部开设有空腔,空腔内部活动卡接有抛光头,空腔内部设置有辅助压合组件,设备主机箱的顶面设置有防喷溅组件。本实用新型能够有效地防止抛光盘上的抛光液飞溅到抛光设备外部。
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