-
公开(公告)号：CN113917587B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202111225474.2
申请日：2021-10-21
申请人： 沈阳仪表科学研究院有限公司
摘要： 本发明属光学滤光片领域，尤其涉一种用于多色荧光检测的多色荧光检测用多通带消偏振二向分色滤光片，由基底及高陡度消偏振多通带二向分色镜膜系构成；膜系结构为：S｜［（aL HL bH LH aL）^m］｜A；或S｜［（aL HLH bL HLH aL）^m］｜A；其中：S为玻璃基底；A为空气；H为高折射率材料；L为低折射率材料；H、L均为光学厚度为λ0/4的膜层；a为峰位系数，b为通带消偏振系数，m为基础膜系的总体循环个数。本发明在45°入射时具有高陡度、消偏振的光谱特性且各适配波段位置和消偏振类型可以灵活调整。
-
公开(公告)号：CN112230325B
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN202011183881.7
申请日：2020-10-29
申请人： 沈阳仪表科学研究院有限公司
IPC分类号： G02B5/28
摘要： 本发明属光学滤光片领域，尤其涉及一种周期对称结构的抑制高级次反射短波通膜系滤光片，膜系结构为：或；其中：H为高折射率材料；L为低折射率材料；S为玻璃基底；A为空气；a、b、c为拟合系数，通过调整拟合系数达到抑制高级次反射效果；m为膜系的总体循环个数，决定膜系的陡度和截止深度。本发明滤光片采用高、低两种折射率材料实现两种材料抑制高级次反射，其工艺简单，可制备性高。
-
公开(公告)号：CN113946007B
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202111225473.8
申请日：2021-10-21
申请人： 沈阳仪表科学研究院有限公司
IPC分类号： G02B5/28
摘要： 本发明属滤光片领域，尤其涉及一种荧光内窥镜用滤光片，由K9玻璃基底及宽透射带深背景负滤光片膜系构成；其中，宽透射带深背景负滤光片膜系在入射的条件下具备以下特征：双透射区和截止区之间的波长范围小于3nm；双宽带透射区范围达到350nm以上(已经满足内窥镜滤光片的使用需求，实际透射区范围内可以设计的更宽)；所述宽透射带深背景负滤光片膜系基本结构为：S|（αHβLγHβLαH）^n|A；其中：S为玻璃基底；A为空气；H为高折射率材料；L为低折射率材料；H、L光学厚度为λ0/4；α、β、γ、分别表示不同材料的匹配系数；n为循环次数。本发明在入射时具有高陡度，宽透射带，深截止背景。
-
公开(公告)号：CN104297834B
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：CN201410623507.2
申请日：2014-11-06
申请人： 沈阳仪表科学研究院有限公司
摘要： 本发明属光学滤光片领域，具体是指针对多色荧光检测的基于循环嵌套模型的多通带滤光片，包括基片上镀制的基础膜系，其基本结构为：[(aHbL)^m αH(bLaH)^m βL]^n(aHbL)^m αH(bLaH)^m或[(aHbLaH)^m αL(aHbLaH)^m βL]^n(aHbLaH)^m αL(aHbLaH)^m；其中：H为高折射率材料；L为低折射率材料；α为间隔层系数，β为匹配层系数，共同决定通带的个数以及其相对位置；a、b为折射率匹配系数，m为反射膜堆的循环次数，a、b、m的匹配共决通带的半宽调整；n为膜系的总体循环个数，决定膜系的截止深度。本发明具有通带个数任意可调，各个通带集中存在于可见区域内，通带位置及通带半宽在截止内连续可调等特点。
-
-
公开(公告)号：CN115903116A
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN202211322514.X
申请日：2022-10-27
申请人： 沈阳仪表科学研究院有限公司
摘要： 本发明属光学滤光片领域，尤其涉及一种荧光检测用消偏振陷波滤光片，包括基片上镀制的基础膜系，其膜系结构为：S|(2HaLbH2LbHaL)^m|A；其中：S为玻璃基底；A为空气；H为高折射率材料；L为低折射率材料，通过更换材料改变比值调整陷波带宽；a、b为消偏振系数，通过调整消偏振系数调整消偏振程度；m为膜系的总体循环个数，决定膜系的陡度和截止深度。本发明消偏振陷波滤光片在45°入射时具备可调节带宽的反射区，具有透射范围宽、陡度高及消偏振特性。
-
公开(公告)号：CN115639638A
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN202211322522.4
申请日：2022-10-27
申请人： 沈阳仪表科学研究院有限公司
IPC分类号： G02B5/28
摘要： 本发明属光学滤光片领域，尤其涉及一种多通道荧光检测用低角度效应多陷波分色滤光片，包括基片上镀制的基础膜系，其膜系结构为：S|k(0.5LcHbL2aHbLcH0.5L)^m|A；其中：S为玻璃基底；A为空气；H为高折射率材料；L为低折射率材料，其中k为波长系数，调整波长系数可调整陷波位置和选择合适的陷波带宽；a为陷波系数，通过调整陷波系数调节陷波数量和角度偏移程度；b、c为消偏振系数，通过调整消偏振系数调整消偏振程度；m为膜系的总体循环个数，决定膜系的陡度和截止深度。本发明在45°入射时具备低角度效应，具有透射范围宽、陡度高及消偏振特性，可实现多个陷波带且陷波个数可调。
-
公开(公告)号：CN112230325A
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN202011183881.7
申请日：2020-10-29
申请人： 沈阳仪表科学研究院有限公司
IPC分类号： G02B5/28
摘要： 本发明属光学滤光片领域，尤其涉及一种周期对称结构的抑制高级次反射短波通膜系滤光片，膜系结构为：或 ；其中：H为高折射率材料；L为低折射率材料；S为玻璃基底；A为空气；a、b、c为拟合系数，通过调整拟合系数达到抑制高级次反射效果；m为膜系的总体循环个数，决定膜系的陡度和截止深度。本发明滤光片采用高、低两种折射率材料实现两种材料抑制高级次反射，其工艺简单，可制备性高。
-
公开(公告)号：CN113249699B
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN202110519659.8
申请日：2021-05-13
申请人： 沈阳仪表科学研究院有限公司
摘要： 本发明属滤光片制备领域，尤其涉及一种基于磁控溅射技术制备高精密波长渐变滤光片的方法及其采用的装置，系将滤光片基底固定在圆形平板状且能绕自身中心轴快速旋转的工件盘的上表面，使滤光片基底的镀膜面朝上，然后高速旋转工件盘；依据设定的波长渐变滤光片膜系，开始靶材溅射并通过等离子源辅助沉积和光控对膜厚进行控制。本发明以磁控溅射工艺为基础，采取集成反向掩膜的方式实现光谱渐变，产品可以同时满足线性度、旁次峰截止、深背景的技术要求；该方法可以实现一次同时镀制两种不同的波长渐变滤光片。
-
公开(公告)号：CN113946007A
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202111225473.8
申请日：2021-10-21
申请人： 沈阳仪表科学研究院有限公司
IPC分类号： G02B5/28
摘要： 本发明属滤光片领域，尤其涉及一种荧光内窥镜用滤光片，由K9玻璃基底及宽透射带深背景负滤光片膜系构成；其中，宽透射带深背景负滤光片膜系在入射的条件下具备以下特征：双透射区和截止区之间的波长范围小于3nm；双宽带透射区范围达到350nm以上(已经满足内窥镜滤光片的使用需求，实际透射区范围内可以设计的更宽)；所述宽透射带深背景负滤光片膜系基本结构为：S|（αHβLγHβLαH）^n|A；其中：S为玻璃基底；A为空气；H为高折射率材料；L为低折射率材料；H、L光学厚度为λ0/4；α、β、γ、分别表示不同材料的匹配系数；n为循环次数。本发明在入射时具有高陡度，宽透射带，深截止背景。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
24 条记录 (耗时 0.032 秒)
