公开(公告)号：CN118497855A

公开(公告)日：2024-08-16

申请号：CN202410668574.X

申请日：2024-05-28

申请人： 沈阳大学

发明人： 栗展鹏 ,  马国峰 ,  王雪融 ,  金姣洋 ,  刘政彣

IPC分类号： C25D11/02

摘要： 一种低能耗微弧氧化智能装置属于微弧氧化设备领域，具体为一种低能耗微弧氧化智能装置。本发明主要通过添加低压起弧添加剂将起弧电压降低。同时配备实时监测与调控系统精确把控。通过优化电源放电模式和电解液配方，实现金属表面陶瓷化层的均匀、致密生长。装置通过精确控制电场强度、放电时间等参数，使放电过程更加稳定、高效。同时搭配的工件传输系统使其反应过程更智能、更高效。通过电场作用下，在电解液与工件表面之间产生微弧放电，从而在工件表面形成一层高硬度、耐磨、耐腐蚀的陶瓷氧化膜。本发明所达到的效果，使其起弧电压降低，其反应过程稳定降低能耗损失。主要适用于微弧氧化设备领域。

公开(公告)号：CN118497854A

公开(公告)日：2024-08-16

申请号：CN202410666512.5

申请日：2024-05-28

申请人： 沈阳大学

发明人： 栗展鹏 ,  马国峰 ,  王雪融 ,  金姣洋 ,  刘政彣

IPC分类号： C25D11/02 ,  C25D11/06 ,  C25D11/30 ,  C25D11/26

摘要： 本发明提供了一种低能耗微弧氧化电解液配置和制备方法。通过在硅酸钠和氢氧化钠组成的硅酸盐体系电解液中，同时添加络合剂和低压起弧添加剂。通过添加不同种类的稀土添加剂（硝酸铕、硝酸铈、硝酸钇和氟锆酸钾），制备微弧氧化陶瓷膜。添加稀土添加后微弧氧化陶瓷膜致密性增加，出现平整的微区，孔径和孔隙率也有所增加。该制备方法包括在阀金属及其合金置于上述电解液中，在恒压模式下形成微弧氧化陶瓷膜。扩大了阀金属的应用范围。本发明所达到的效果，使其起弧电压降低，其反应过程稳定降低能耗损失。微弧氧化膜层致密性增加，耐蚀性增加。本发明主要适用于材料表面改性领域。