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公开(公告)号:CN108217819A
公开(公告)日:2018-06-29
申请号:CN201810055651.9
申请日:2018-01-19
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: C02F1/30 , C02F1/32 , C02F1/36 , C02F101/30
Abstract: 本发明公开了一种大气压等离子体射流协同超声与催化的水处理装置,包括气液两相反应单元、超声辐射单元、气体流量调整单元、液体流量调整单元、气液分离单元、光学检测单元、水质分析单元、驱动单元,所述气液两相反应单元内部设置有光催化单元。本发明利用大气压等离子体射流(APPJ)在气相中产生等离子体的活性物质注入水处理反应器用于降解液相有机废水中的污染物分子,并与超声辐射单元的超声作用和光催化单元的光催化作用产生协同效应,增强气相放电产生的活性物质处理有机废水,有效地提高了废水处理的效率。
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公开(公告)号:CN108337797A
公开(公告)日:2018-07-27
申请号:CN201810055646.8
申请日:2018-01-19
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: H05H1/24
Abstract: 本发明公开了气液两相放电等离子体材料表面处理装置,将高压气体通过流量计注入介质阻挡放电中,气体种类可根据加工对象进行调整。介质阻挡放电产生的大量活性粒子注入到液相中,利用液相中特殊活化性能对工件表面进行处理。通过紫外传感器检测产生的各种活性粒子,并传输到数据采集与控制单元,显示当前装置的工作状态,并实现在线实时动态调整,进而实现对液相中工件表面处理的自动化。通过二维平台控制工件移动,实现连续、均匀表面的处理。其有效提高了介质阻挡放电所产生等离子体活性物质与工件的表面接触面积,增大了射流设备的工作效率。
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公开(公告)号:CN108147371B
公开(公告)日:2021-03-05
申请号:CN201810055581.7
申请日:2018-01-19
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: C01B15/029
Abstract: 本发明公开了直流电晕放电水雾合成双氧水的装置和方法,该装置包括气液入口控制单元、气液混合发生单元、高压激励单元、气液分离单元、O2和O3分离单元、O2循环单元、H2O2分离单元、控制控制单元以及用于测得气液压力的压力传感器和测得气液流量的流量传感器;本发明采用线线阵列式高压直流电晕放电,在水雾喷雾中建立了非平衡等离子体处理系统,采用喷嘴喷射水雾射流,扩散区域广,处理流量大;由于线线阵列式反应器制作简单,可减小自身电容,减少能耗损失,其大面积放电区域可适用于大流量生产,且采用电晕放电,电流小,功耗低,本发明制取双氧水原料易获取,产率高,因此本发明适用于大规模制取双氧水。
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公开(公告)号:CN108321251B
公开(公告)日:2019-11-08
申请号:CN201810054495.4
申请日:2018-01-19
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: H01L31/18
Abstract: 本发明公开了一种大气压放电等离子体射流制备黑硅的方法,包括以下步骤:将硅片置于等离子体射流放电溶液中,氧化硅片表面;将上述硅片依次置于HF、乙醇溶液中清洗后;放入NaOH溶液中抛光;然后放入NaOH与乙醇的混合液中制绒后,清洗;再放入等离子体射流放电的混合溶液中制成黑硅后,清洗、干燥;混合溶液包括金属盐催化剂与HF。其具有反应装置要求低、操作简便、成本低、常温下反应、便于实现大规模生产等优点,特别是生成的H2O2含量稳定,具有很强的实用性和广泛的适用性,并具有显著的经济效益。
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公开(公告)号:CN108321251A
公开(公告)日:2018-07-24
申请号:CN201810054495.4
申请日:2018-01-19
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: H01L31/18
Abstract: 本发明公开了一种大气压放电等离子体射流制备黑硅的方法,包括以下步骤:将硅片置于等离子体射流放电溶液中,氧化硅片表面;将上述硅片依次置于HF、乙醇溶液中清洗后;放入NaOH溶液中抛光;然后放入NaOH与乙醇的混合液中制绒后,清洗;再放入等离子体射流放电的混合溶液中制成黑硅后,清洗、干燥;混合溶液包括金属盐催化剂与HF。其具有反应装置要求低、操作简便、成本低、常温下反应、便于实现大规模生产等优点,特别是生成的H2O2含量稳定,具有很强的实用性和广泛的适用性,并具有显著的经济效益。
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公开(公告)号:CN108147371A
公开(公告)日:2018-06-12
申请号:CN201810055581.7
申请日:2018-01-19
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: C01B15/029
Abstract: 本发明公开了直流电晕放电水雾合成双氧水的装置和方法,该装置包括气液入口控制单元、气液混合发生单元、高压激励单元、气液分离单元、O2和O3分离单元、O2循环单元、H2O2分离单元、控制控制单元以及用于测得气液压力的压力传感器和测得气液流量的流量传感器;本发明采用线线阵列式高压直流电晕放电,在水雾喷雾中建立了非平衡等离子体处理系统,采用喷嘴喷射水雾射流,扩散区域广,处理流量大;由于线线阵列式反应器制作简单,可减小自身电容,减少能耗损失,其大面积放电区域可适用于大流量生产,且采用电晕放电,电流小,功耗低,本发明制取双氧水原料易获取,产率高,因此本发明适用于大规模制取双氧水。
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公开(公告)号:CN108217819B
公开(公告)日:2021-04-02
申请号:CN201810055651.9
申请日:2018-01-19
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: C02F1/30 , C02F1/32 , C02F1/36 , C02F101/30
Abstract: 本发明公开了一种大气压等离子体射流协同超声与催化的水处理装置,包括气液两相反应单元、超声辐射单元、气体流量调整单元、液体流量调整单元、气液分离单元、光学检测单元、水质分析单元、驱动单元,所述气液两相反应单元内部设置有光催化单元。本发明利用大气压等离子体射流(APPJ)在气相中产生等离子体的活性物质注入水处理反应器用于降解液相有机废水中的污染物分子,并与超声辐射单元的超声作用和光催化单元的光催化作用产生协同效应,增强气相放电产生的活性物质处理有机废水,有效地提高了废水处理的效率。
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公开(公告)号:CN108163925A
公开(公告)日:2018-06-15
申请号:CN201810055200.5
申请日:2018-01-19
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: C02F1/30 , C02F1/36 , C02F1/32 , C02F1/72 , C02F101/30
Abstract: 本发明公开大区域介质阻挡放电协同超声与催化的水处理装置,包括气液两相反应单元、超声辐射单元、气体流量调整单元、液体流量调整单元、气液分离单元、水质分析单元、驱动单元,所述气液两相反应单元内部设置有光催化单元,所述气液两相反应单元的上方设置有相连通的阵列式DBD反应器。本发明利用介质阻挡放电在气相中产生等离子体的活性物质注入水处理装置用于降解液相中废水的有机污染物分子,并与超声辐射单元和光催化单元的光催化作用产生协同效应,增强气相放电产生的活性物质处理有机废水。本发明中阵列式介质阻挡放电的结构可以极大地增加放电的区域,提高等离子体的活性物质的产量,并通过级联处理,可以极大地提高处理水的效率。
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公开(公告)号:CN108135067A
公开(公告)日:2018-06-08
申请号:CN201810055645.3
申请日:2018-01-19
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: H05H1/24
CPC classification number: H05H1/2406
Abstract: 本发明公开了水雾介质阻挡放电等离子体及表面处理装置,将高压气体通过质量流量计引入射流装置中,气体种类可根据加工对象进行调整,利用雾化喷嘴将液体处理为气雾或液滴,并在高压气体作用下注入介质阻挡放电中。介质阻挡放电产生的大量活性粒子扩散到液相中,利用液相中特殊活化性能对工件表面进行处理。通过紫外传感器检测产生的各种活性粒子,并传输到数据采集与控制单元,显示当前装置的工作状态,并实现在线实时动态调整,进而实现对液相中工件表面处理的自动化。通过二维平台控制工件移动,实现连续、均匀表面的处理。其有效提高了介质阻挡放电所产生等离子体活性物质与工件的表面接触面积,增大了射流设备的工作效率。
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