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发明公开
含羟胺的稳定溶液、含羟胺的半导体清洗液、其制备方法及用途有权

公开(公告)号：CN115595217A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202211219099.5

申请日：2022-10-08

申请人： 浙江奥首材料科技有限公司(CN)

发明人： 侯军 , 申海艳 , 吕晶 , 任浩楠

IPC分类号： C11D7/32 , C11D7/50 , C11D7/60 , G03F7/42

摘要： 本发明提供一种含羟胺的稳定溶液、含羟胺的半导体清洗液、其制备方法及用途。所述含羟胺的稳定溶液包括重量配比如下的各组分：羟胺及其衍生物5‑30份；螯合剂1‑5份；葫芦脲及其衍生物5‑20份。本发明通过葫芦脲及其衍生物对羟胺分子进行包结，避免羟胺分子与金属离子及酸碱性介质的直接接触；使用螯合剂对金属离子进行络合，确保从葫芦脲及其衍生物中释放的羟胺分子不会受到金属离子的催化而发生分解。本发明还公开了一种含羟胺的半导体清洗液，包括含羟胺的稳定溶液、碱、水溶性有机溶剂和超纯水。本发明含羟胺的半导体清洗液既可避免羟胺由于金属离子催化导致的分解，又可防止因高温及碱性导致的羟胺分解，能广泛应用于半导体清洗。