一种平面抛光装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117260461A

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN202311261639.0

    申请日:2023-09-27

    Abstract: 一种平面抛光装置,包括机架和转动连接于机架上的抛光机,所述机架上设有抛光台和超声清洗台,抛光台和超声清洗台设置于抛光机相对两侧;所述抛光机输出端设有用于放置待抛光件的载物盘;所述抛光台内转动设有旋转件,旋转件上设置有与载物盘相配合的加热盘,机架内设有与旋转件相连接的传动机构;所述机架上还设有用于清洗抛光台的修整环固定机构,机架的一侧设有与抛光台相连通的滴料机构;与现有技术相比,使得加热、清洗和抛光均在同一装置中完成,避免了在抛光过程中将待抛光件更换处理设备,提高了待抛光件的抛光效率,同时加热、清洗和抛光等步骤均在一个装置中,进而减小了装置的占地面积。

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