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公开(公告)号：CN104390907A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201410576616.3
申请日：2014-10-24
申请人： 海南电力技术研究院 , 中国科学院金属研究所 , 沈阳中科腐蚀控制工程技术中心
IPC分类号： G01N17/04
摘要： 本发明涉及一种四电极土壤腐蚀检测探头包括四电极以及主杆管，其中四电极共同嵌入电极座中固定，四电极的导线经主杆管接至多功能土壤腐蚀测量仪；电极座与主杆管通过航空插头进行插接。所述电极座为两种，一种电极座插入的四电极分别为参比硫酸铜电极、工作电极、铂电极和温度电极；其中工作电极材质与待测金属材质相同；另一种电极座插入的四电极均为铜电极。本发明具有多种检测功能，实现了对土壤温度、电阻率、氧化还原电位及土壤腐蚀率的现场测量，转换方便，有效地降低了土壤IR降对电化学测量的影响，提高了测得数据即金属的腐蚀速度的可靠性，具有携带方便的优点。
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公开(公告)号：CN107287601A
公开(公告)日：2017-10-24
申请号：CN201610223432.8
申请日：2016-04-12
申请人： 海南电力技术研究院 , 中国科学院金属研究所
IPC分类号： C23F13/14
CPC分类号： C23F13/14
摘要： 本发明涉及新型镁合金牺牲阳极专用填包料领域，具体为一种含有硝酸钠的镁合金牺牲阳极填包料及其制作方法，可应用到牺牲阳极阴极保护工程中。在传统填包料成分中加入硝酸钠，填包料由A、B、C三种成分组成，其中A组分为石膏粉，B组分为膨润土及类似的硅藻土，C组分为硝酸钠，按重量比A:B:C＝1:2:1混合均匀，加水混合成泥状，装入棉布袋或麻布袋中使用。本发明可明显降低被保护体整体接地电阻，并且硝酸钠比例可调。
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公开(公告)号：CN102560578A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201010598862.0
申请日：2010-12-21
申请人： 中国科学院金属研究所
IPC分类号： C25D5/20
摘要： 本发明涉及电镀装置领域，具体为一种间断式超声电镀装置及其应用，可应用到各类电镀行业的电镀工艺中，例如电镀Ni、Cr、Cu或Mn等。该装置设有超声水槽、水浴、电镀容器、超声发生器、控制器，超声水槽中放入水，构成水浴，镀液装入电镀容器中，电镀容器置于超声水槽中，电镀容器外的超声水槽水面持平或略低于镀液液面高度，电镀容器的下部与超声水槽之间有间隔；超声水槽底部设置超声发生器，控制器的输出端连接超声发生器，控制器的输入端连接时间继电器。本发明解决超声电镀硬膜过厚脆裂的问题，以及呼应大幅度提高普通电镀行业各项性能的瓶颈，该类膜层相对于超声电镀膜层大幅度的提高耐磨性能、耐腐蚀性能以及膜层结合力。
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公开(公告)号：CN103388137B
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201310275419.3
申请日：2013-07-02
申请人： 中国科学院金属研究所
IPC分类号： C23C18/36
摘要： 本发明涉及叠层膜的制备技术，具体为一种具有优良耐磨、耐腐蚀性能并且可抑制裂纹产生和扩展的化学镀Ni-P纳米叠层镀膜及其制备方法。本发明采用化学镀工艺并间歇式周期性导入超声波的技术，制备Ni-P纳米叠层镀膜，其制备方法：经过除油、净化处理的金属基底材料，进行化学镀Ni-P纳米叠层镀膜，当Ni-P纳米叠层镀膜达到所需要的厚度时，取出清洗干净并进行干燥后，即可得到制好的化学镀Ni-P纳米叠层镀膜，其单层厚度在50-500纳米，总厚度在4-50微米范围内根据实际需求可以进行调整。
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公开(公告)号：CN102560578B
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201010598862.0
申请日：2010-12-21
申请人： 中国科学院金属研究所
IPC分类号： C25D5/20
摘要： 本发明涉及电镀装置领域，具体为一种间断式超声电镀装置及其应用，可应用到各类电镀行业的电镀工艺中，例如电镀Ni、Cr、Cu或Mn等。该装置设有超声水槽、水浴、电镀容器、超声发生器、控制器，超声水槽中放入水，构成水浴，镀液装入电镀容器中，电镀容器置于超声水槽中，电镀容器外的超声水槽水面持平或略低于镀液液面高度，电镀容器的下部与超声水槽之间有间隔；超声水槽底部设置超声发生器，控制器的输出端连接超声发生器，控制器的输入端连接时间继电器。本发明解决超声电镀硬膜过厚脆裂的问题，以及呼应大幅度提高普通电镀行业各项性能的瓶颈，该类膜层相对于超声电镀膜层大幅度的提高耐磨性能、耐腐蚀性能以及膜层结合力。
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公开(公告)号：CN103388137A
公开(公告)日：2013-11-13
申请号：CN201310275419.3
申请日：2013-07-02
申请人： 中国科学院金属研究所
IPC分类号： C23C18/36
摘要： 本发明涉及叠层膜的制备技术，具体为一种具有优良耐磨、耐腐蚀性能并且可抑制裂纹产生和扩展的化学镀Ni-P纳米叠层镀膜及其制备方法。本发明采用化学镀工艺并间歇式周期性导入超声波的技术，制备Ni-P纳米叠层镀膜，其制备方法：经过除油、净化处理的金属基底材料，进行化学镀Ni-P纳米叠层镀膜，当Ni-P纳米叠层镀膜达到所需要的厚度时，取出清洗干净并进行干燥后，即可得到制好的化学镀Ni-P纳米叠层镀膜，其单层厚度在50-500纳米，总厚度在4-50微米范围内根据实际需求可以进行调整。
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公开(公告)号：CN111252621A
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201811452812.4
申请日：2018-11-30
申请人： 中国科学院金属研究所
IPC分类号： B65H54/547 , B65H54/44 , B65H54/28 , B65H59/38 , C03C25/12 , C03C25/1065 , C03C25/54
摘要： 本发明涉及光纤表面处理过程中的缠绕系统领域，具体是一种位移式张力控制的全自动光纤缠绕系统。该系统包括全自动控制系统、机械进给系统及位移式张力控制系统，由可编程控制器PLC、旋转电机、机械进给装置及位移式张力控制装置组成的金属丝密排缠绕系统。整个自动化控制系统的核心是可编程控制器PLC，它避免传统的继电器控制系统的相应慢，电气元件过多等缺点，具有响应快，精度高、功能性强等优点。在本发明中提出一种通过位移检测来控制张力的新方法，在整个缠绕过程中，与光纤接触点都为光滑的圆弧面，不会对光纤造成损害，将光纤上的张力始终控制在10～15g之间，该系统适用于线径0.1mm以上的光纤镀膜缠绕。
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公开(公告)号：CN102277604B
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN201010196679.8
申请日：2010-06-10
申请人： 中国科学院金属研究所
摘要： 本发明涉及叠层膜的制备技术，具体为一种不仅具有优良耐磨、耐腐蚀性能，而且与基体材料结合强度高、可抑制裂纹的产生与扩展的电镀Ni叠层膜及其制备方法，解决了在常规镀膜表面镀层存在穿通底金属的细小孔道和在常规超声镀膜表面容易导致微裂纹的生成与扩展等问题。该电镀Ni叠层膜是在电镀工艺过程中通过间歇引入超声波信号于金属基底材料上沉积Ni镀膜，获得的金属镍膜呈层状结构。其制备方法：经过除油、净化处理的金属基底材料，进行电镀Ni叠层镀膜，当镍叠层镀膜达到所需要的厚度时，取出清洗干净并进行干燥后，即可得到制好的电镀Ni叠层镀膜，其单层厚度在0.1-10微米，总厚度在4-50微米范围内，根据实际需求可以进行调整。
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公开(公告)号：CN102277604A
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN201010196679.8
申请日：2010-06-10
申请人： 中国科学院金属研究所
摘要： 本发明涉及叠层膜的制备技术，具体为一种不仅具有优良耐磨、耐腐蚀性能，而且与基体材料结合强度高、可抑制裂纹的产生与扩展的电镀Ni叠层膜及其制备方法，解决了在常规镀膜表面镀层存在穿通底金属的细小孔道和在常规超声镀膜表面容易导致微裂纹的生成与扩展等问题。该电镀Ni叠层膜是在电镀工艺过程中通过间歇引入超声波信号于金属基底材料上沉积Ni镀膜，获得的金属镍膜呈层状结构。其制备方法：经过除油、净化处理的金属基底材料，进行电镀Ni叠层镀膜，当镍叠层镀膜达到所需要的厚度时，取出清洗干净并进行干燥后，即可得到制好的电镀Ni叠层镀膜，其单层厚度在0.1-10微米，总厚度在4-50微米范围内，根据实际需求可以进行调整。
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公开(公告)号：CN201915158U
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN201020672783.5
申请日：2010-12-21
申请人： 中国科学院金属研究所
摘要： 本实用新型涉及电镀装置领域，具体为一种间断式超声电镀装置，可应用到各类电镀行业的电镀工艺中，例如电镀Ni、Cr、Cu或Mn等。该装置设有超声水槽、水浴、电镀容器、超声发生器、控制器，超声水槽中放入水，构成水浴，镀液装入电镀容器中，电镀容器置于超声水槽中，电镀容器外的超声水槽水面持平或略低于镀液液面高度，电镀容器的下部与超声水槽之间有间隔；超声水槽底部设置超声发生器，控制器的输出端连接超声发生器，控制器的输入端连接时间继电器。本实用新型解决超声电镀硬膜过厚脆裂的问题，以及呼应大幅度提高普通电镀行业各项性能的瓶颈，该类膜层相对于超声电镀膜层大幅度的提高耐磨性能、耐腐蚀性能以及膜层结合力。
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