公开(公告)号：CN116693581B

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN202310587613.9

申请日：2023-05-23

申请人： 深圳中农秸美科技股份有限公司

发明人： 臧立华 ,  宋晓哲 ,  马忠民 ,  李烁聪 ,  陈晓红 ,  张明露

IPC分类号： C07G1/00 ,  B01J27/24 ,  B01J35/39 ,  B01J35/61 ,  B01J35/50 ,  B01J37/08

摘要： 本发明属于光催化材料技术领域，具体涉及一种光催化解聚木质素的方法。反应溶剂乙腈加入在反应器中，并加入过渡金属掺杂缺陷型g‑C3N4光催化剂、木质素反应底物，在可见光源激发下，进行木质素反应底物的氧化裂解。本发明的催化体系使木质素温和条件下同时实现C‑C和C‑O键的断裂，并提高芳烃类产物的生成效率。

公开(公告)号：CN116689008A

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202310566911.X

申请日：2023-05-18

申请人： 深圳中农秸美科技股份有限公司 ,  齐鲁工业大学(山东省科学院)

发明人： 宋晓哲 ,  臧立华 ,  张明露 ,  李烁聪 ,  陈晓红 ,  马忠民

IPC分类号： B01J27/24 ,  C10G1/00 ,  B01J37/08 ,  C07C37/00 ,  C07C39/04 ,  C07C1/20 ,  C07C15/04

摘要： 本发明公布了一种用于木质素氧化解聚的过渡金属掺杂缺陷型g‑C3N4光催化材料的制备方法。首先将三聚氰胺和可溶性过渡金属盐按比例混合均匀，经过酸化处理后将混合物干燥煅烧，得到过渡金属掺杂富C缺陷g‑C3N4。本发明利用酸蚀和热剥离双重作用，得到比表面积更大、层状结构分明的缺陷型g‑C3N4，继而将过渡金属原子稳定嵌于酸刻蚀留下的C空位中，有效拓宽了催化材料的光响应范围及催化活性，材料制备简单、成本可控，可在温和条件下实现木质素中C‑O及顽固C‑C键的氧化解聚。

公开(公告)号：CN116689008B

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202310566911.X

申请日：2023-05-18

申请人： 深圳中农秸美科技股份有限公司

发明人： 宋晓哲 ,  臧立华 ,  张明露 ,  李烁聪 ,  陈晓红 ,  马忠民

IPC分类号： B01J27/24 ,  C10G1/00 ,  B01J37/08 ,  C07C37/00 ,  C07C39/04 ,  C07C1/20 ,  C07C15/04

摘要： 本发明公布了一种用于木质素氧化解聚的过渡金属掺杂缺陷型g‑C3N4光催化材料的制备方法。首先将三聚氰胺和可溶性过渡金属盐按比例混合均匀，经过酸化处理后将混合物干燥煅烧，得到过渡金属掺杂富C缺陷g‑C3N4。本发明利用酸蚀和热剥离双重作用，得到比表面积更大、层状结构分明的缺陷型g‑C3N4，继而将过渡金属原子稳定嵌于酸刻蚀留下的C空位中，有效拓宽了催化材料的光响应范围及催化活性，材料制备简单、成本可控，可在温和条件下实现木质素中C‑O及顽固C‑C键的氧化解聚。

公开(公告)号：CN116693581A

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202310587613.9

申请日：2023-05-23

申请人： 深圳中农秸美科技股份有限公司 ,  齐鲁工业大学(山东省科学院)

发明人： 臧立华 ,  宋晓哲 ,  马忠民 ,  李烁聪 ,  陈晓红 ,  张明露

IPC分类号： C07G1/00 ,  B01J27/24 ,  B01J35/00 ,  B01J35/10 ,  B01J35/02 ,  B01J37/08

摘要： 本发明属于光催化材料技术领域，具体涉及一种光催化解聚木质素的方法。反应溶剂乙腈加入在反应器中，并加入过渡金属掺杂缺陷型g‑C3N4光催化剂、木质素反应底物，在可见光源激发下，进行木质素反应底物的氧化裂解。本发明的催化体系使木质素温和条件下同时实现C‑C和C‑O键的断裂，并提高芳烃类产物的生成效率。