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发明公开
一种曝光镜头焦面调试方法审中-实审

公开(公告)号：CN115291354A

公开(公告)日：2022-11-04

申请号：CN202210776144.0

申请日：2022-07-04

申请人： 深圳凯世光研股份有限公司

发明人： 蔡志国 , 周宇

IPC分类号： G02B7/04

摘要： 本发明涉及一种曝光镜头焦面调试方法，解决现有曝光镜头焦面调试工序繁琐不便，效率低的问题。包括有如下步骤：A：制作用于曝光镜头固定的镜头法兰盘；B：初步识别每个镜头的大致焦面；C：确定镜头的焦面为基准；D：将最大焦面的那个镜头焦面使用顶丝调整至一致；E：用相同的调试方法逐个调校其它镜头；F：确保每个顶丝均匀受力。在设备调校时，根据几个镜头焦面的差异选定目标焦面后，通过调整法兰上各方位的顶丝深度达到轻松调整各个镜头的焦面以及单个镜头焦面均匀一致的目的，并且此种方式不会像使用垫片一样每个镜头的焦面呈阶梯状差异，可最大化的实现焦面统一，提高整体的设备能力宽容度，并且调试简单，调试效率高。