一种应用于光隔离器的多点点胶工艺及光隔离器器件

    公开(公告)号:CN110824620A

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201911116984.9

    申请日:2019-11-15

    发明人: 聂淼

    IPC分类号: G02B6/26

    摘要: 本申请实施例中,提供了一种应用于光隔离器的多点点胶工艺及光隔离器器件,首先在磁环内的预设位置点胶,再将芯片装入磁环中,芯片的棱线处无胶水,最后通过旋转芯片,使得芯片的棱线分别与预设位置的胶水接触,烘烤固化芯片与磁环,避免了胶水残留在磁环的端面,使得光隔离器的芯片与磁环装配后,在磁环的外表面不产生残胶,避免了光隔离器的使用过程中产生的杂质掉落于光通道上,影响通信效果,降低了光隔离器的更换率。

    一种光隔离器的核心器件及光隔离器

    公开(公告)号:CN110737116A

    公开(公告)日:2020-01-31

    申请号:CN201911116992.3

    申请日:2019-11-15

    发明人: 聂淼

    IPC分类号: G02F1/09

    摘要: 本申请实施例提供了一种光隔离器的核心器件及光隔离器,将偏振片的横截面设计为正六边形结构,在同样尺寸的整块材料上,相较于以前横截面为正方形时,可切割出更多的偏振片,提高了材料的利用率,降低了生产成本,解决了现有的光隔离器的核心器件由横截面为正方形的偏振片以及法拉第旋转片组成,在对一整片材料进行划片时,利用率不高以及成本较高的技术问题。

    一种光隔离器的分体式磁环及点胶工艺

    公开(公告)号:CN110837189A

    公开(公告)日:2020-02-25

    申请号:CN201911116825.9

    申请日:2019-11-15

    发明人: 聂淼

    IPC分类号: G02F1/09

    摘要: 本申请实施例提供了一种光隔离器的分体式磁环及点胶工艺,将磁环分割为四个相同形状的扇形磁块,且扇形磁块的第一面切割为与光隔离器的芯片外表面匹配的平面,使得仅需要单独在扇形磁块的第一面上点胶,并分别与光隔离器的芯片的四个外表面固定,即可完成光隔离器的磁环与芯片的装配,解决了现有的装配工艺为了避免胶体的残留,对人工的经验要求过高,导致的光隔离器的磁环和芯片的装配复杂,容易产生残胶的技术问题。

    一种多通道隔离器
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110737117A

    公开(公告)日:2020-01-31

    申请号:CN201911116995.7

    申请日:2019-11-15

    发明人: 聂淼

    IPC分类号: G02F1/09

    摘要: 本申请实施例公开了一种多通道隔离器,利用光楔以及法拉第旋转片,将隔离器的可通光范围扩大,降低多通道隔离器的整体空间需求,无需将单独的隔离器对齐排列,降低客户的装配难度,解决了现有的光隔离器为了实现多通道传输,通过挡板将多个自由空间隔离器在基板上排列,存在的装配过程复杂,多通道隔离器的体积大的技术问题。

    一种光隔离器的核心器件及光隔离器

    公开(公告)号:CN210639377U

    公开(公告)日:2020-05-29

    申请号:CN201921971990.8

    申请日:2019-11-15

    发明人: 聂淼

    IPC分类号: G02F1/09

    摘要: 本申请实施例提供了一种光隔离器的核心器件及光隔离器,将偏振片的横截面设计为正六边形结构,在同样尺寸的整块材料上,相较于以前横截面为正方形时,可切割出更多的偏振片,提高了材料的利用率,降低了生产成本,解决了现有的光隔离器的核心器件由横截面为正方形的偏振片以及法拉第旋转片组成,在对一整片材料进行划片时,利用率不高以及成本较高的技术问题。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种多通道隔离器
    6.
    实用新型

    公开(公告)号:CN210982960U

    公开(公告)日:2020-07-10

    申请号:CN201921971947.1

    申请日:2019-11-15

    发明人: 聂淼

    IPC分类号: G02F1/09

    摘要: 本申请实施例公开了一种多通道隔离器,利用光楔以及法拉第旋转片,将隔离器的可通光范围扩大,降低多通道隔离器的整体空间需求,无需将单独的隔离器对齐排列,降低客户的装配难度,解决了现有的光隔离器为了实现多通道传输,通过挡板将多个自由空间隔离器在基板上排列,存在的装配过程复杂,多通道隔离器的体积大的技术问题。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利