一种半导体光刻板快速清洗装置

    公开(公告)号:CN108735636B

    公开(公告)日:2020-11-27

    申请号:CN201810611742.6

    申请日:2018-06-14

    IPC分类号: H01L21/67

    摘要: 本发明涉及一种半导体光刻板生产领域,尤其涉及一种半导体光刻板快速清洗装置。一种半导体光刻板快速清洗装置,该装置包括外罩机架组件以及依次设置在外罩机架组件内的上料机构、旋转抓取装置、定位顶升输送滚轮装置、输送滚轮装置、直线移动抓取机构、清洗装置和第二输送滚轮装置;所述的直线移动抓取机构包括真空吸盘装置、直线移动传动轴、升降装置和纵向移动装置;该装置采用直线移动抓取机构进行抓取和清洗,提高了清洗的效率,自动化程度高,批量处理能力强,可以广泛用于工业生产之中。

    一种芯片生产用光刻机

    公开(公告)号:CN108873619B

    公开(公告)日:2020-11-20

    申请号:CN201810754955.4

    申请日:2018-07-11

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本发明涉及芯片生产设备领域,具体的说是一种芯片生产用光刻机,包括底板、高度调节结构、工作台、检测结构、LED灯、积尘结构和真空泵;底板与用于放置芯片的工作台之间设有调节高度的高度调节结构;工作台的内部设有提供负压的真空泵;工作台上设有用于检测芯片的LED灯与用于放置芯片的检测结构;工作台的底端设有用于收纳灰尘的积尘结构。本发明的真空泵配合检测结构的使用实现了积尘结构的内部负压,便于将检测结构上的芯片上的灰尘废屑压进积尘结构的内部,便于快速的处理光刻后的灰尘,工作台上设置的LED灯配合检测结构的使用便于在处理灰尘的同时对光刻的芯片进行检测,节省了了加工工序的时间,大大提高了工作效率。

    一种全自动半导体晶片喷胶机构及其喷胶设备

    公开(公告)号:CN109433479B

    公开(公告)日:2020-11-24

    申请号:CN201910025385.X

    申请日:2019-01-11

    摘要: 本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种全自动半导体晶片喷胶机构及其喷胶设备。该喷胶机构包括喷胶平台、旋转盘、旋转升降驱动装置、水平竖直移动装置、喷嘴和防溅罩;旋转盘设置在喷胶平台上,旋转升降驱动装置设置在旋转盘的底部,且通过旋转升降驱动装置带动旋转盘升降和旋转;水平竖直移动装置设置在喷胶平台上,喷嘴设置在水平竖直移动装置上,且通过水平竖直移动装置带动喷嘴水平竖直移动;防溅罩与旋转盘相配合,并且防止喷胶时胶液飞溅。本发明的有益效果是:能够使喷嘴前后左右移动,提高喷胶效率;能够使旋转盘升降,提高喷胶效果;能够使喷嘴工作前进行试喷,防止喷嘴堵塞。

    一种半导体光刻板清洗生产系统

    公开(公告)号:CN108974913B

    公开(公告)日:2020-12-01

    申请号:CN201810611758.7

    申请日:2018-06-14

    IPC分类号: B65G47/90

    摘要: 本发明涉及一种半导体光刻板生产领域,尤其涉及一种半导体光刻板清洗的定位顶升输送滚轮装置。一种半导体光刻板清洗的定位顶升输送滚轮装置,该装置包括架体、输送滚轮装置、抓取定位装置和提升横移装置;架体固定在外罩机架组件上,输送滚轮装置包括侧板、传动轴和纵向滚轮,所述的抓取定位装置包括定位板、移动板和拨动架,所述的提升横移装置包括气缸固定板、顶升气缸、导向杆、连接板、滚轮安装条和横向滚轮,该装置实现了光刻板的定位,提高了自动化程度高,可以广泛用于工业生产之中。