X射线衍射装置和控制方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118501192A

    公开(公告)日:2024-08-16

    申请号:CN202410600686.1

    申请日:2024-05-11

    发明人: 刘振 顾斌

    IPC分类号: G01N23/20008 G01N23/207

    摘要: 一种X射线衍射装置和控制方法,涉及成像装置技术领域,X射线衍射装置包括X射线源、试样台、X射线探测器和一维弯晶,X射线源用于产生第一X射线,试样台用于放置待测材料,X射线探测器用于探测待测材料产生的待测衍射X射线,一维弯晶具有衍射面,衍射面为曲面,曲面在X射线源至X射线探测器的方向上弯曲,衍射面用于发生衍射并会聚第二X射线至试样台,以在试样台上形成光斑,一维弯晶用于使第二X射线在多个角度同时入射到待测材料。本申请通过使X射线衍射装置满足上述结构,有利于使得在单位测量时间内,待测材料的多个衍射面同时发生衍射,节省了X射线衍射装置对单个待测材料进行测试的测量时间,提升了X射线衍射装置的测试速度。