公开(公告)号：CN115537729A

公开(公告)日：2022-12-30

申请号：CN202211084868.5

申请日：2022-09-06

申请人： 深圳市氟德特科技有限公司

发明人： 屠国力 ,  田楠 ,  林养唐 ,  任毅 ,  屠楠

IPC分类号： C23C14/10 ,  C23C14/08 ,  C23C14/35

摘要： 本发明公开了一种降低透明CPI基膜黄色指数的工艺方法，包括如下步骤：S1，240～260℃下，在聚酰亚胺薄膜表面沉积SiO2层，沉积完成后冷却至室温，并静置于真空环境中；S2，在SiO2层表面磁控溅射ITO膜层，ITO膜层的厚度与聚酰亚胺薄膜的吸收波长相适应。本发明通过在聚酰亚胺薄膜表面依次设置SiO2层和ITO膜层，形成复合涂层结构，使复合涂层结构与聚酰亚胺薄膜的吸收波长形成互补，在保证透射率不降低的同时，使整体膜层的黄色指数显著降低。

公开(公告)号：CN115537729B

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202211084868.5

申请日：2022-09-06

申请人： 深圳市氟德特科技有限公司

发明人： 屠国力 ,  田楠 ,  林养唐 ,  任毅 ,  屠楠

IPC分类号： C23C14/10 ,  C23C14/08 ,  C23C14/35

摘要： 本发明公开了一种降低透明CPI基膜黄色指数的工艺方法，包括如下步骤：S1，240～260℃下，在聚酰亚胺薄膜表面沉积SiO2层，沉积完成后冷却至室温，并静置于真空环境中；S2，在SiO2层表面磁控溅射ITO膜层，ITO膜层的厚度与聚酰亚胺薄膜的吸收波长相适应。本发明通过在聚酰亚胺薄膜表面依次设置SiO2层和ITO膜层，形成复合涂层结构，使复合涂层结构与聚酰亚胺薄膜的吸收波长形成互补，在保证透射率不降低的同时，使整体膜层的黄色指数显著降低。