利用喷镀贵金属膜控制碳纳米管三维图形化生长的方法

    公开(公告)号:CN1321886C

    公开(公告)日:2007-06-20

    申请号:CN200510098719.4

    申请日:2005-09-07

    申请人: 清华大学

    发明人: 张政军 周雅 岳阳

    摘要: 本发明公开了属于纳米材料制备技术领域的一种利用喷镀贵金属膜控制碳纳米管三维图形化生长的方法。以金或银等贵金属为靶材,在洁净的硅基底上覆盖适当形状和层数的掩膜,在真空镀膜机内,喷镀贵金属膜层,随后将按上述过程处理的硅片置于石英真空管式炉中,利用二茂铁和二甲苯作为反应物,通过化学气相沉积法制备碳纳米管,控制生长时间,可在硅基底上获得三维图形化生长的碳纳米管阵列,该制备方法简单,容易控制,图形化效果好。此方法在制造纳米电子器件和场发射器等方面具有广泛的应用前景。

    一种在硅基底上直接生长定向准直碳纳米管阵列的方法

    公开(公告)号:CN1769546A

    公开(公告)日:2006-05-10

    申请号:CN200410088424.4

    申请日:2004-11-02

    申请人: 清华大学

    发明人: 张政军 周雅 岳阳

    摘要: 本发明公开了属于纳米材料制备技术领域的一种在硅基底上直接生长定向准直碳纳米管阵列的方法。所用方法为化学气相沉积法,原料为二茂铁和二甲苯。制备时,首先将洁净的硅基底置于石英真空管式炉中,使炉管内气压达到40Pa以下,并使炉温升至碳纳米管沉积所需温度。随后将一定浓度范围内的二茂铁/二甲苯溶液注入炉管中,此过程中须控制溶液注入速度,同时调节真空蝶阀以使炉内气压稳定在某一范围内。反应完成后使系统开始降温,同时保持系统抽真空状态直至系统降至一定温度以下。此方法可在硅基底上得到定向准直生长的碳纳米管阵列,在制造纳米电子器件和场发射器等方面具有广泛的应用前景。

    一种在硅基底上直接生长定向准直碳纳米管阵列的方法

    公开(公告)号:CN1322177C

    公开(公告)日:2007-06-20

    申请号:CN200410088424.4

    申请日:2004-11-02

    申请人: 清华大学

    发明人: 张政军 周雅 岳阳

    摘要: 本发明公开了属于纳米材料制备技术领域的一种在硅基底上直接生长定向准直碳纳米管阵列的方法。所用方法为化学气相沉积法,原料为二茂铁和二甲苯。制备时,首先将洁净的硅基底置于石英真空管式炉中,使炉管内气压达到40Pa以下,并使炉温升至碳纳米管沉积所需温度。随后将一定浓度范围内的二茂铁/二甲苯溶液注入炉管中,此过程中须控制溶液注入速度,同时调节真空蝶阀以使炉内气压稳定在某一范围内。反应完成后使系统开始降温,同时保持系统抽真空状态直至系统降至一定温度以下。此方法可在硅基底上得到定向准直生长的碳纳米管阵列,在制造纳米电子器件和场发射器等方面具有广泛的应用前景。

    利用喷镀贵金属膜控制碳纳米管三维图形化生长的方法

    公开(公告)号:CN1730387A

    公开(公告)日:2006-02-08

    申请号:CN200510098719.4

    申请日:2005-09-07

    申请人: 清华大学

    发明人: 张政军 周雅 岳阳

    摘要: 本发明公开了属于纳米材料制备技术领域的一种利用喷镀贵金属膜控制碳纳米管三维图形化生长的方法。以金或银等贵金属为靶材,在洁净的硅基底上覆盖适当形状和层数的掩膜,在真空镀膜机内,喷镀贵金属膜层,随后将按上述过程处理的硅片置于石英真空管式炉中,利用二茂铁和二甲苯作为反应物,通过化学气相沉积法制备碳纳米管,控制生长时间,可在硅基底上获得三维图形化生长的碳纳米管阵列,该制备方法简单,容易控制,图形化效果好。此方法在制造纳米电子器件和场发射器等方面具有广泛的应用前景。