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公开(公告)号：CN101571596A
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200810105432.3
申请日：2008-04-29
申请人： 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司
IPC分类号： G01T1/36
摘要： 本发明提供了测量脉冲型射线能谱的系统及方法。该系统包括用于测量脉冲型射线散射谱的装置，包括散射体前准直器、散射体、包括谱仪探测器和用于记录来自谱仪探测器的信号的谱仪主机的能谱仪、谱仪探测器置于其内的开孔中的该谱仪屏蔽体、位于散射体和谱仪探测器之间的至少一个准直器，其中所述脉冲型射线经过散射体前准直器后到达散射体，一散射角处的散射线由所述至少一个准直器准直后进入谱仪探测器。该系统还包括能量响应矩阵计算器、散射概率矩阵计算器、原始谱计算器、输入装置、以及显示装置。采用本发明，能实现对电子直线加速器打靶输出的X射线能谱的测量。
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公开(公告)号：CN101571596B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN200810105432.3
申请日：2008-04-29
申请人： 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司
IPC分类号： G01T1/36
摘要： 本发明提供了测量脉冲型射线能谱的系统及方法。该系统包括用于测量脉冲型射线散射谱的装置，包括散射体前准直器、散射体、包括谱仪探测器和用于记录来自谱仪探测器的信号的谱仪主机的能谱仪、谱仪探测器置于其内的开孔中的该谱仪屏蔽体、位于散射体和谱仪探测器之间的至少一个准直器，其中所述脉冲型射线经过散射体前准直器后到达散射体，一散射角处的散射线由所述至少一个准直器准直后进入谱仪探测器。该系统还包括能量响应矩阵计算器、散射概率矩阵计算器、原始谱计算器、输入装置、以及显示装置。采用本发明，能实现对电子直线加速器打靶输出的X射线能谱的测量。
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公开(公告)号：CN103645494A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201310690376.5
申请日：2011-12-30
申请人： 同方威视技术股份有限公司
IPC分类号： G01T1/29
摘要： 本发明公开了一种测量加速器射线束的能量的方法，包括步骤：提供衰减体装置，其具有工作部，所述工作部阻挡来自于加速器靶点的X射线束以对该X射线束的强度进行衰减；提供探测器，其用于探测穿过衰减体装置的工作部的X射线束的剂量；提供位置调整装置，其用于承载所述衰减体装置和所述探测器以及对所述衰减体装置和所述探测器的空间位置进行调整；和通过改变所述衰减体装置的工作部的厚度以对该X射线束的强度进行不同的衰减。所述方法能够通过设置具有厚度可变的工作部的衰减体装置以及承载和定位衰减体装置与探测器的位置调整装置来改善衰减体的调节和所述装置的定位精度。
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公开(公告)号：CN103645494B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201310690376.5
申请日：2011-12-30
申请人： 同方威视技术股份有限公司
IPC分类号： G01T1/29
摘要： 本发明公开了一种测量加速器射线束的能量的方法，包括步骤：提供衰减体装置，其具有工作部，所述工作部阻挡来自于加速器靶点的X射线束以对该X射线束的强度进行衰减；提供探测器，其用于探测穿过衰减体装置的工作部的X射线束的剂量；提供位置调整装置，其用于承载所述衰减体装置和所述探测器以及对所述衰减体装置和所述探测器的空间位置进行调整；和通过改变所述衰减体装置的工作部的厚度以对该X射线束的强度进行不同的衰减。所述方法能够通过设置具有厚度可变的工作部的衰减体装置以及承载和定位衰减体装置与探测器的位置调整装置来改善衰减体的调节和所述装置的定位精度。
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公开(公告)号：CN103185891B
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201110455719.0
申请日：2011-12-30
申请人： 同方威视技术股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种加速器射线束测量设备。所述加速器射线束测量设备包括：衰减体装置，其具有工作部，所述工作部阻挡来自于加速器靶点的射线束以对该射线束的强度进行衰减；探测器，其用于探测穿过衰减体装置的工作部的射线束的强度或剂量；和位置调整装置，其用于承载所述衰减体装置和所述探测器以及对所述衰减体装置和所述探测器的空间位置进行调整，其中，所述衰减体装置的工作部的厚度是可变的以对该射线束的强度进行不同的衰减。所述测量设备能够通过设置具有厚度可变的工作部的衰减体装置以及承载和定位衰减体装置与探测器的位置调整装置来改善衰减体的调节和所述装置的定位精度。
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公开(公告)号：CN101571496B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200810105429.1
申请日：2008-04-29
申请人： 同方威视技术股份有限公司
摘要： 本发明涉及了用于辐射成像系统的紧凑型校正与准直装置，其包括：准直组件；校正组件，由多个可分离的小校正块顺序排列组成；操纵装置，其处于校正组件的外侧，用于控制各个校正块的移动；其中准直组件和校正组件之间保持一定间隔以形成直线窄缝，当该校正与准直装置执行准直功能时，辐射成像系统发射的射线通过该直线窄缝以被准直；当该校正与准直装置执行校正功能时，操纵装置开始工作，顺序推动各小校正块分别进入窄缝与准直块接触，形成对射线的不同厚度的阻挡，由此得到不同的阻挡厚度以及相对应的射线强度关系。与现有校正与准直装置相比，体积小、重量轻，可以实现多种材质和高精度的校正，有利于提高辐射成像质量。
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公开(公告)号：CN103185891A
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201110455719.0
申请日：2011-12-30
申请人： 同方威视技术股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种加速器射线束测量设备。所述加速器射线束测量设备包括：衰减体装置，其具有工作部，所述工作部阻挡来自于加速器靶点的射线束以对该射线束的强度进行衰减；探测器，其用于探测穿过衰减体装置的工作部的射线束的强度或剂量；和位置调整装置，其用于承载所述衰减体装置和所述探测器以及对所述衰减体装置和所述探测器的空间位置进行调整，其中，所述衰减体装置的工作部的厚度是可变的以对该射线束的强度进行不同的衰减。所述测量设备能够通过设置具有厚度可变的工作部的衰减体装置以及承载和定位衰减体装置与探测器的位置调整装置来改善衰减体的调节和所述装置的定位精度。
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公开(公告)号：CN101740155B
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：CN200810226668.2
申请日：2008-11-19
申请人： 同方威视技术股份有限公司
摘要： 一种辐射屏蔽装置，包括：由屏蔽墙形成的空间，辐射源设置在所述空间中；形成在所述屏蔽墙中的开口；以及陷阱(2)，该陷阱(2)通过屏蔽墙的部分向外凸起而形成，通过陷阱(2)的屏蔽墙，增加辐射源产生的射线到达开口处在空间内由屏蔽墙散射的次数。本发明利用带陷阱的紧凑型迷宫结构进行辐射屏蔽与防护，迷宫墙和陷阱对辐射源产生的透射射线和在射线传递过程中产生的散射射线进行有效屏蔽和快速衰减，以实现迷宫屏蔽装置外围边界的辐射水平满足设计要求；在合适的位置设计一定形状的喉板可以减小射线的散射面积，进一步降低泄漏出去的辐射水平；带陷阱的紧凑型迷宫结构占地面积小，防护成本低，能实现辐照系统连续、快速工作的需求。
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公开(公告)号：CN101571496A
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：CN200810105429.1
申请日：2008-04-29
申请人： 同方威视技术股份有限公司
摘要： 本发明涉及了用于辐射成像系统的紧凑型校正与准直装置，其包括：准直组件；校正组件，由多个可分离的小校正块顺序排列组成；操纵装置，其处于校正组件的外侧，用于控制各个校正块的移动；其中准直组件和校正组件之间保持一定间隔以形成直线窄缝，当该校正与准直装置执行准直功能时，辐射成像系统发射的射线通过该直线窄缝以被准直；当该校正与准直装置执行校正功能时，操纵装置开始工作，顺序推动各小校正块分别进入窄缝与准直块接触，形成对射线的不同厚度的阻挡，由此得到不同的阻挡厚度以及相对应的射线强度关系。与现有校正与准直装置相比，体积小、重量轻，可以实现多种材质和高精度的校正，有利于提高辐射成像质量。
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公开(公告)号：CN101740155A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200810226668.2
申请日：2008-11-19
申请人： 同方威视技术股份有限公司
摘要： 一种辐射屏蔽装置，包括：由屏蔽墙形成的空间，辐射源设置在所述空间中；形成在所述屏蔽墙中的开口；以及陷阱(2)，该陷阱(2)通过屏蔽墙的部分向外凸起而形成，通过陷阱(2)的屏蔽墙，增加辐射源产生的射线到达开口处在空间内由屏蔽墙散射的次数。本发明利用带陷阱的紧凑型迷宫结构进行辐射屏蔽与防护，迷宫墙和陷阱对辐射源产生的透射射线和在射线传递过程中产生的散射射线进行有效屏蔽和快速衰减，以实现迷宫屏蔽装置外围边界的辐射水平满足设计要求；在合适的位置设计一定形状的喉板可以减小射线的散射面积，进一步降低泄漏出去的辐射水平；带陷阱的紧凑型迷宫结构占地面积小，防护成本低，能实现辐照系统连续、快速工作的需求。
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