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公开(公告)号：CN108151658B
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN201810069463.1
申请日：2018-01-24
申请人： 清华大学深圳研究生院
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 本发明公开了一种判断光栅尺参考点绝对位置的装置及方法，该装置包括光源、分束镜、参考点掩膜、参考点编码带、光电探测器和信号处理计算机，参考点掩膜包括多个宽度相等的第一矩形块，多个第一矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列；参考点编码带包括多组参考点组，每组参考点组包括两个参考点编码区，每个参考点编码区包括多个宽度相等的第二矩形块，多个第二矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列，两个参考点编码区沿着第二矩形块的宽度方向间隔排列，多组参考点组沿着第二矩形块的宽度方向等间距排列，第一矩形块和第二矩形块均能够吸收或反射光线。本发明避免了光栅尺增量位移误差和参考点检测误差的干扰，提高了参考点绝对位置判断的可靠性。
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公开(公告)号：CN108151658A
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：CN201810069463.1
申请日：2018-01-24
申请人： 清华大学深圳研究生院
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 本发明公开了一种判断光栅尺参考点绝对位置的装置及方法，该装置包括光源、分束镜、参考点掩膜、参考点编码带、光电探测器和信号处理计算机，参考点掩膜包括多个宽度相等的第一矩形块，多个第一矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列；参考点编码带包括多组参考点组，每组参考点组包括两个参考点编码区，每个参考点编码区包括多个宽度相等的第二矩形块，多个第二矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列，两个参考点编码区沿着第二矩形块的宽度方向间隔排列，多组参考点组沿着第二矩形块的宽度方向等间距排列，第一矩形块和第二矩形块均能够吸收或反射光线。本发明避免了光栅尺增量位移误差和参考点检测误差的干扰，提高了参考点绝对位置判断的可靠性。
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公开(公告)号：CN105606033A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201610157166.3
申请日：2016-03-18
申请人： 清华大学深圳研究生院
IPC分类号： G01B11/02
CPC分类号： G01B11/02
摘要： 本发明公开了绝对式光栅尺、其主光栅及其测量方法，绝对式光栅尺包括主光栅和读数头部件，所述读数头部件包括增量位移测量单元，所述读数头部件还包括第一分光镜、掩膜板和参考位置光电探测器，所述主光栅上分布有若干个参考编码道，任意相邻的两个参考编码道之间的距离与其余任意相邻的两个参考编码道之间的距离不相同，所述第一分光镜用于将光源的光分成射向主光栅的光束和射向增量位移测量单元的光束，所述射向主光栅的光束经过所述掩膜板到达所述主光栅并被反射后，再次经过所述掩膜板后被所述参考位置光电探测器接收，所述掩膜板上设有与所述参考编码道相对应的编码道。本发明可用于精密加工和检测领域的精密测量环节。
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公开(公告)号：CN105606033B
公开(公告)日：2018-04-20
申请号：CN201610157166.3
申请日：2016-03-18
申请人： 清华大学深圳研究生院
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 本发明公开了绝对式光栅尺、其主光栅及其测量方法，绝对式光栅尺包括主光栅和读数头部件，所述读数头部件包括增量位移测量单元，所述读数头部件还包括第一分光镜、掩膜板和参考位置光电探测器，所述主光栅上分布有若干个参考编码，任意相邻的两个参考编码之间的距离与其余任意相邻的两个参考编码之间的距离不相同，所述第一分光镜用于将光源的光分成射向主光栅的光束和射向增量位移测量单元的光束，所述射向主光栅的光束经过所述掩膜板到达所述主光栅并被反射后，再次经过所述掩膜板后被所述参考位置光电探测器接收，所述掩膜板上设有与所述主光栅上的参考编码相对应的参考编码。本发明可用于精密加工和检测领域的精密测量环节。
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公开(公告)号：CN105758435B
公开(公告)日：2018-02-09
申请号：CN201610234556.6
申请日：2016-04-14
申请人： 清华大学深圳研究生院
IPC分类号： G01D5/38
摘要： 本发明公开了绝对式光栅尺，其中，主光栅上分布有若干个参考编码道，任意相邻的两个参考编码道之间的距离与其余任意相邻的两个参考编码道之间的距离不相同，第一分光镜将光源的光分成射向主光栅的光束和射向增量位移测量单元的光束，射向主光栅的光束经过掩膜板到达主光栅并被反射后，再次经过掩膜板后被参考位置光电探测器接收，掩膜板上设有与参考编码道相同的编码道，掩膜板的位置设置成：掩模版绕θx方向倾斜一个小的角度，使得射向掩膜板的光束被掩膜板反射后不被参考位置光电探测器接收。本发明可以增强参考信号对比度，实现0.6μm的参考点定位精度。
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公开(公告)号：CN105758435A
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201610234556.6
申请日：2016-04-14
申请人： 清华大学深圳研究生院
IPC分类号： G01D5/38
摘要： 本发明公开了绝对式光栅尺，其中，主光栅上分布有若干个参考编码道，任意相邻的两个参考编码道之间的距离与其余任意相邻的两个参考编码道之间的距离不相同，第一分光镜将光源的光分成射向主光栅的光束和射向增量位移测量单元的光束，射向主光栅的光束经过掩膜板到达主光栅并被反射后，再次经过掩膜板后被参考位置光电探测器接收，掩膜板上设有与参考编码道相同的编码道，掩膜板的位置设置成：掩模版绕θx方向倾斜一个小的角度，使得射向掩膜板的光束被掩膜板反射后不被参考位置光电探测器接收。本发明可以增强参考信号对比度，实现0.6μm的参考点定位精度。
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公开(公告)号：CN207717036U
公开(公告)日：2018-08-10
申请号：CN201820120827.X
申请日：2018-01-24
申请人： 清华大学深圳研究生院
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 本实用新型公开了一种判断光栅尺参考点绝对位置的装置，包括光源、分束镜、参考点掩膜、参考点编码带、光电探测器和信号处理计算机，参考点掩膜包括多个宽度相等的第一矩形块，多个第一矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列；参考点编码带包括多组参考点组，每组参考点组包括两个参考点编码区，每个参考点编码区包括多个宽度相等的第二矩形块，多个第二矩形块沿其自身的宽度方向等间距排列，两个参考点编码区沿着第二矩形块的宽度方向间隔排列，多组参考点组沿着第二矩形块的宽度方向等间距排列，且第一矩形块和第二矩形块均能够吸收或反射光线。本实用新型能够避免光栅尺增量位移误差和参考点检测误差的干扰，提高参考点绝对位置判断的可靠性。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN205642401U
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201620313005.4
申请日：2016-04-14
申请人： 清华大学深圳研究生院
IPC分类号： G01D5/38
摘要： 本实用新型公开了绝对式光栅尺，其中，主光栅上分布有若干个参考编码道，任意相邻的两个参考编码道之间的距离与其余任意相邻的两个参考编码道之间的距离不相同，第一分光镜将光源的光分成射向主光栅的光束和射向增量位移测量单元的光束，射向主光栅的光束经过掩膜板到达主光栅并被反射后，再次经过掩膜板后被参考位置光电探测器接收，掩膜板上设有与参考编码道相同的编码道，掩膜板的位置设置成：掩模版绕θx方向倾斜一个小的角度，使得射向掩膜板的光束被掩膜板反射后不被参考位置光电探测器接收。本实用新型可以增强参考信号对比度，实现0.6μm的参考点定位精度。
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