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公开(公告)号：CN113866880A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202111178870.4
申请日：2021-10-09
Applicant: 温州大学
Abstract: 本发明提供了一种基于飞秒激光直写的光学模拟平台制备方法，包括：样品片准备、加工台调平；之后启动加工程序，使得飞秒激光焦点位于光刻胶/硅的交界面而且在激光焦点保持不动的同时，样品片按照设计结构实现长程连续移动，最终在样品片上完成整个波导阵列的扫描；然后再经未交联光刻胶去除、旋涂波导阵列包层等步骤，既得到微米级别聚合物基波导阵列。该制备方法利用飞秒激光双光子聚合高精度点‑线‑面加工能力实现微米级别聚合物基波导阵列的快速制备。由于飞秒激光无掩模、真三维的加工特点，实现了聚合物波导阵列任意的高度、宽度、截面的精确定制，进而利用波导截面双折射梯度实现相关光学模拟实验。
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