一种硅掺杂铈元素红外探测器、制备方法及系统

    公开(公告)号:CN112909117B

    公开(公告)日:2022-08-02

    申请号:CN202110086317.1

    申请日:2021-01-22

    申请人: 湖北大学

    摘要: 本发明涉及一种硅掺杂铈元素红外探测器、制备方法及系统。该方法包括:通过离子注入的方法在硅片背面中注入砷元素作为二极管的N型半导体,并通过1000℃退火20s;通过离子注入的方法在硅片正面注入硼元素作为二极管的P型半导体,再分向所述P型半导体的耗尽层注入五次铈元素,通过1050℃退火10s;通过氢氟酸腐蚀掉所述硅片表面的二氧化硅,并将所述硅片放入真空镀膜仪中镀上正反面电极,取出后通过快速热退火炉360℃退火2mins;将所述硅片切割成一个个独立器件;采用80℃氢氧化钾溶液浸泡2mins完成刻蚀表面抛光工作,去掉黑蜡得到探测器。本发明在低温下中红外领域具有较高探测率,将硅基光电探测器的探测领域推向近、中红外波段。

    一种硅掺杂铈元素红外探测器、制备方法及系统

    公开(公告)号:CN112909117A

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN202110086317.1

    申请日:2021-01-22

    申请人: 湖北大学

    摘要: 本发明涉及一种硅掺杂铈元素红外探测器、制备方法及系统。该方法包括:通过离子注入的方法在硅片背面中注入砷元素作为二极管的N型半导体,并通过1000℃退火20s;通过离子注入的方法在硅片正面注入硼元素作为二极管的P型半导体,再分向所述P型半导体的耗尽层注入五次铈元素,通过1050℃退火10s;通过氢氟酸腐蚀掉所述硅片表面的二氧化硅,并将所述硅片放入真空镀膜仪中镀上正反面电极,取出后通过快速热退火炉360℃退火2mins;将所述硅片切割成一个个独立器件;采用80℃氢氧化钾溶液浸泡2mins完成刻蚀表面抛光工作,去掉黑蜡得到探测器。本发明在低温下中红外领域具有较高探测率,将硅基光电探测器的探测领域推向近、中红外波段。