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公开(公告)号：CN108411269B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN201810447697.5
申请日：2018-05-11
申请人： 湖南众源科技有限公司 , 湖南天羿领航科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种应用于立式硅片磁控溅射镀膜机的离子清洗电极，包括：电极接头、水冷电极、进水接头、出水接头和分水管，电极接头的一端与水冷电极相连，分水管包括贯穿水冷电极和电极接头的第一内分水管、第二内分水管、延伸出水冷电极顶部的外分水管网，进水接头通过第一内分水管与外分水管网相连，出水接头通过第二内分水管与外分水管网相连；电极接头外覆盖有绝缘套，绝缘套外覆盖有外屏蔽罩，外屏蔽罩通过固定装置与立式硅片磁控溅射镀膜机内的支架底部相连，水冷电极与立式硅片磁控溅射镀膜机内的支架之间设置有密封绝缘套。本发明将加热和清洗步骤同时进行，并且利用等量的冷却水进行了双重散热，散热效果好、密封绝缘性佳。
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公开(公告)号：CN108411270B
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN201810448149.4
申请日：2018-05-11
申请人： 湖南众源科技有限公司 , 湖南天羿领航科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种立式硅片磁控溅射镀膜机，包括：真空室、设置在真空室内用于悬挂和移动硅片的传动装置，以及用于抽真空的真空抽气系统、用于供电和控制工作状态的电源控制系统；所述真空室包括互相密封连接的的清洗室和溅射室，清洗室内设置有离子清洗电极，溅射室内设置有溅射靶；传动装置包括设置在真空室内的硅片挂板、挂板底座、轨道车，硅片挂板与挂板底座可拆卸连接，轨道车顶部开设有凹槽，挂板底座底部设置有凸出部，挂板底座通过凸出部和凹槽的配合与轨道车固定插接。采用本设计可以减少真空室体积、真空效果好，并且取放硅片方便，能够有效去除硅片表面残渣并加热，镀膜后的成片效果好。
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公开(公告)号：CN108411270A
公开(公告)日：2018-08-17
申请号：CN201810448149.4
申请日：2018-05-11
申请人： 湖南菲尔姆真空设备有限公司 , 湖南天羿领航科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种立式硅片磁控溅射镀膜机，包括：真空室、设置在真空室内用于悬挂和移动硅片的传动装置，以及用于抽真空的真空抽气系统、用于供电和控制工作状态的电源控制系统；所述真空室包括互相密封连接的清洗室和溅射室，清洗室内设置有离子清洗电极，溅射室内设置有溅射靶；传动装置包括设置在真空室内的硅片挂板、挂板底座、轨道车，硅片挂板与挂板底座可拆卸连接，轨道车顶部开设有凹槽，挂板底座底部设置有凸出部，挂板底座通过凸出部和凹槽的配合与轨道车固定插接。采用本设计可以减少真空室体积、真空效果好，并且取放硅片方便，能够有效去除硅片表面残渣并加热，镀膜后的成片效果好。
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公开(公告)号：CN108411269A
公开(公告)日：2018-08-17
申请号：CN201810447697.5
申请日：2018-05-11
申请人： 湖南菲尔姆真空设备有限公司 , 湖南天羿领航科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种应用于立式硅片磁控溅射镀膜机的离子清洗电极，包括：电极接头、水冷电极、进水接头、出水接头和分水管，电极接头的一端与水冷电极相连，分水管包括贯穿水冷电极和电极接头的第一内分水管、第二内分水管、延伸出水冷电极顶部的外分水管网，进水接头通过第一内分水管与外分水管网相连，出水接头通过第二内分水管与外分水管网相连；电极接头外覆盖有绝缘套，绝缘套外覆盖有外屏蔽罩，外屏蔽罩通过固定装置与立式硅片磁控溅射镀膜机内的支架底部相连，水冷电极与立式硅片磁控溅射镀膜机内的支架之间设置有密封绝缘套。本发明将加热和清洗步骤同时进行，并且利用等量的冷却水进行了双重散热，散热效果好、密封绝缘性佳。
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公开(公告)号：CN208218949U
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201820706820.6
申请日：2018-05-11
申请人： 湖南菲尔姆真空设备有限公司 , 湖南天羿领航科技有限公司
IPC分类号： C23C14/35
摘要： 本实用新型公开了一种应用于立式硅片磁控溅射镀膜机的传动装置，包括：机架、设置在机架上的真空室，真空室设置有硅片挂板、挂板底座、轨道车，硅片挂板与挂板底座可拆卸连接；轨道车顶部开设有凹槽，挂板底座底部设置有凸出部，挂板底座通过凸出部和凹槽的配合与轨道车固定插接，挂板底座和轨道车的接触面之间设置有绝缘层；轨道车侧边设置有从动轮，真空室外壁与从动轮对应处设置有驱动轮，驱动轮与从动轮通过转动轴相连。采用此设计既方便取放硅片，又可以整个减少真空室的容积，真空效果好，提高了镀膜质量，此外设置的绝缘层避免了镀膜时因为绝缘效果不佳产生的边缘效应，使镀膜效果更均匀，提高了成片质量。
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