一种广义哈德曼传感器
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112326031B

    公开(公告)日:2022-01-04

    申请号:CN202011103738.2

    申请日:2020-10-15

    IPC分类号: G01J4/00 B81C1/00 B81B7/04

    摘要: 本发明实施例涉及微纳光学及光学检测领域,特别涉及一种广义哈德曼传感器。本发明实施例提供一种广义哈德曼传感器,包括第一超构表面元件和第二超构表面元件,第一超构表面元件和第二超构表面元件均包括:介质衬底以及至少一个周期的电介质纳米结构阵列,电介质纳米结构阵列设置在介质衬底上,电介质纳米结构阵列包含至少一个电介质纳米柱,第一超构表面元件用于将入射光聚焦到第二超构表面元件,第二超构表面元件用于显示入射光带有偏振态信息的图像,当入射光经过该广义哈德曼传感器后,可以通过光斑偏移检测入射光的波前相位,以及通过出射光图案来检测入射光的偏振态信息。

    一种显示模组以及显示模组的制备方法

    公开(公告)号:CN112015015A

    公开(公告)日:2020-12-01

    申请号:CN202011151894.6

    申请日:2020-10-26

    摘要: 本发明实施例涉及显示模组技术领域,特别是涉及一种显示模组以及显示模组的制备方法,显示模组包括第一衬底层,所述第一衬底层用于供光入射;第一电极层,叠设于所述第一衬底层,所述第一电极层用于与外部电源连接;若干电介质纳米柱,分布于所述第一电极层;第一光致取向层,叠设于所述若干电介质纳米柱;第二光致取向层;液晶层,设置于所述第一光致取向层和第二光致取向层之间;第二电极层,叠设于所述第二光致取向层,所述第二电极层用于与所述外部电源连接;第二衬底层,叠设于所述第二电极层,所述第二衬底层用于所述光出射。在所述第一电极层和第二电极层施加电压,所述液晶层中的液晶分子取向,则可通过所述显示模组实现全息图的切换。

    一种超构表面光学透镜和成像装置

    公开(公告)号:CN112379469A

    公开(公告)日:2021-02-19

    申请号:CN202011240953.7

    申请日:2020-11-09

    IPC分类号: G02B3/00 G02B1/00

    摘要: 本发明实施例涉及微纳光学及光学成像技术领域,特别涉及一种超构表面光学透镜和成像装置。本发明实施例提供一种超构表面光学透镜,包括介质衬底和设置于介质衬底的电介质纳米结构,其中,电介质纳米结构包括至少两个呈圆形排列的电介质纳米结构阵列,电介质纳米结构阵列包括至少一个电介质纳米柱,同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱的结构一致、同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱的长轴尺寸和短轴一致、同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱在介质衬底表面的面内角度一致。当不同偏振态的入射光经过超构表面光学透镜后,能在像侧实现多处聚焦。

    一种广义哈德曼传感器
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112326031A

    公开(公告)日:2021-02-05

    申请号:CN202011103738.2

    申请日:2020-10-15

    IPC分类号: G01J4/00 B81C1/00 B81B7/04

    摘要: 本发明实施例涉及微纳光学及光学检测领域,特别涉及一种广义哈德曼传感器。本发明实施例提供一种广义哈德曼传感器,包括第一超构表面元件和第二超构表面元件,第一超构表面元件和第二超构表面元件均包括:介质衬底以及至少一个周期的电介质纳米结构阵列,电介质纳米结构阵列设置在介质衬底上,电介质纳米结构阵列包含至少一个电介质纳米柱,第一超构表面元件用于将入射光聚焦到第二超构表面元件,第二超构表面元件用于显示入射光带有偏振态信息的图像,当入射光经过该广义哈德曼传感器后,可以通过光斑偏移检测入射光的波前相位,以及通过出射光图案来检测入射光的偏振态信息。

    一种显示模组以及显示模组的制备方法

    公开(公告)号:CN112015015B

    公开(公告)日:2021-03-02

    申请号:CN202011151894.6

    申请日:2020-10-26

    摘要: 本发明实施例涉及显示模组技术领域,特别是涉及一种显示模组以及显示模组的制备方法,显示模组包括第一衬底层,所述第一衬底层用于供光入射;第一电极层,叠设于所述第一衬底层,所述第一电极层用于与外部电源连接;若干电介质纳米柱,分布于所述第一电极层;第一光致取向层,叠设于所述若干电介质纳米柱;第二光致取向层;液晶层,设置于所述第一光致取向层和第二光致取向层之间;第二电极层,叠设于所述第二光致取向层,所述第二电极层用于与所述外部电源连接;第二衬底层,叠设于所述第二电极层,所述第二衬底层用于所述光出射。在所述第一电极层和第二电极层施加电压,所述液晶层中的液晶分子取向,则可通过所述显示模组实现全息图的切换。

    一种成像模组
    8.
    发明公开
    一种成像模组 审中-实审

    公开(公告)号:CN112188072A

    公开(公告)日:2021-01-05

    申请号:CN202011155716.0

    申请日:2020-10-26

    摘要: 本发明实施例涉及超构表面之中的超构透镜技术领域,特别是涉及一种成像模组,包括衬底、超构透镜、感光芯片和光学胶。超构透镜包括四种超构透镜单元,其电介质基底设置于衬底,包括第一超构透镜单元、第二超构透镜单元、第三超构透镜单元和第四超构透镜单元,第一超构透镜单元与第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为九十度,第三超构透镜单元,与第一超构透镜单元和第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为四十五度,第四超构透镜单元可供左圆或者右圆偏振光通过。感光芯片设置于超构透镜。光学胶设置于超构透镜与感光芯片之间。成像模组的四种超构透镜单元分别对四种偏振光敏感,成像模组可同时进行四种偏振成像。

    一种成像模组
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN213186257U

    公开(公告)日:2021-05-11

    申请号:CN202022410002.1

    申请日:2020-10-26

    摘要: 本实用新型实施例涉及超构表面之中的超构透镜技术领域,特别是涉及一种成像模组,包括衬底、超构透镜、感光芯片和光学胶。超构透镜包括四种超构透镜单元,其电介质基底设置于衬底,包括第一超构透镜单元、第二超构透镜单元、第三超构透镜单元和第四超构透镜单元,第一超构透镜单元与第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为九十度,第三超构透镜单元,与第一超构透镜单元和第二超构透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为四十五度,第四超构透镜单元可供左圆或者右圆偏振光通过。感光芯片设置于超构透镜。光学胶设置于超构透镜与感光芯片之间。成像模组的四种超构透镜单元分别对四种偏振光敏感,成像模组可同时进行四种偏振成像。