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发明授权
一种悬浮阳极及带有悬浮阳极的磁控溅射装置有权

公开(公告)号：CN106884150B

公开(公告)日：2023-06-09

申请号：CN201710270245.X

申请日：2017-04-24

申请人： 爱瑞德科技(大连)有限公司

发明人： 潘泽

IPC分类号： C23C14/35

摘要： 本发明提供了一种悬浮阳极及带有悬浮阳极的磁控溅射装置，该悬浮阳极包括：阳极主体，所述阳极主体内部为空心结构，且所述阳极主体由阳极部分及两个阳极主体支撑端组成；所述阳极部分包括水平部及分别与所述水平部相互连通的两个竖直部；所述两个阳极主体支撑端的其中一端分别与其中一个竖直部连接，另一端分别连接水管，冷却水通过其中一个水管流入所述阳极主体，从另一个水管流出所述阳极主体；密封绝缘件，套设在所述阳极主体支撑端上，并与所述磁控溅射装置的真空腔体的开口密封连接；电线，一端连接所述阳极主体支撑端，另一端连接磁控溅射电源。利用本发明，可以使大量溢出电子被阳极吸收，以防止电子轰击基片造成基片温度过高的问题。