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公开(公告)号:CN116242241A
公开(公告)日:2023-06-09
申请号:CN202310191640.4
申请日:2023-03-02
申请人: 电子科技大学
IPC分类号: G01B7/06 , G06F18/213 , G06F18/10 , G06F17/10
摘要: 本发明公开了一种基于低频磁场磁感应特性的涂镀覆层厚度检测方法,首先构建一个低频磁感应测厚装置,利用低频的动态磁场作为激励源。在此基础上,基于标准基底通过数据降维、多周期平均建立标准基底建立厚度曲线,再基于没有涂镀覆层的待测基底建立与标准基体的校准关系,最后获得的特征量经过校准关系得到校准后的特征量,并通入厚度曲线得到待测基底涂镀覆层厚度。本发明利用低频的动态磁场作为激励源,降低磁感应测厚与测量基底的相关性,消除基底磁滞对涂镀覆层厚度测量结果的影响,同时,对采集数据为多个周期磁滞回线进行降维、平均,相对于现有的单点磁芯信号,更为精准地反应了涂镀覆层的厚度,因此,本发明提升磁感应测厚法的测量精度。