多模态图像的配准

    公开(公告)号:CN101080746A

    公开(公告)日:2007-11-28

    申请号:CN200580043323.8

    申请日:2005-12-05

    IPC分类号: G06T7/00

    摘要: 用于生成对象的已配准诊断图像的系统,诸如核和磁共振(MR)诊断图像,所述系统包括用于生成发射诊断图像(58)和还任选地生成中间透射或发射图像(56)的核成像设备(10)。诸如MR成像设备的第二成像设备(12)生成磁共振诊断图像(62)并还任选地生成中间图像,所述中间图像比诊断MR图像更容易与来自核成像设备的图像配准。图像的处理包括:预处理部分(64),用于生成用于对准由核成像设备与MR成像设备生成的图像(56,58,60,62)中共同的解剖结构的变换;和诊断图像配准部分,用于应用该变换以使发射和磁共振诊断图像(58,62)配准。

    在RF场中使用的传输线
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1977179A

    公开(公告)日:2007-06-06

    申请号:CN200580021740.2

    申请日:2005-06-23

    IPC分类号: G01R33/28

    CPC分类号: G01R33/287 G01R33/288

    摘要: 公开了一种导电连接(连接引线)或传输线(13),包括至少一个变压器(41,42;83),用于耦合线(13)的至少两个引线段(51,52;81,82)和用于当传输线(13)经过RF场时确保传输线(13)的安全。而且,公开了与这种导电连接或传输线(13)相结合的电学装置(10)及其制造方法。这些线尤其用于磁共振(MR)成像系统和用于将电学装置(10)特别是导管或用于人体检查的其它植入装置连接到连接单元(12),例如检查区域(1)之外的电源或控制单元,当传输线(13)经过RF场时,没有引入电学装置和/或连接单元的干扰和/或损坏的风险以及由于传输线(13)的加热而烧伤患者(P)的风险。

    多模态图像的配准

    公开(公告)号:CN101080746B

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN200580043323.8

    申请日:2005-12-05

    IPC分类号: G06T7/00

    摘要: 用于生成对象的已配准诊断图像的系统,诸如核和磁共振(MR)诊断图像,所述系统包括用于生成发射诊断图像(58)和还任选地生成中间透射或发射图像(56)的核成像设备(10)。诸如MR成像设备的第二成像设备(12)生成磁共振诊断图像(62)并还任选地生成中间图像,所述中间图像比诊断MR图像更容易与来自核成像设备的图像配准。图像的处理包括:预处理部分(64),用于生成用于对准由核成像设备与MR成像设备生成的图像(56,58,60,62)中共同的解剖结构的变换;和诊断图像配准部分,用于应用该变换以使发射和磁共振诊断图像(58,62)配准。

    用在RF场中的传输路径、电附属设备以及磁共振成像系统

    公开(公告)号:CN101084450B

    公开(公告)日:2010-10-06

    申请号:CN200580043823.1

    申请日:2005-12-15

    IPC分类号: G01R33/36

    摘要: 本发明公开了一种用于传输高频(RF)信号的传输路径(13),其包括多个导线分段(20,21,22),所述导线分段在一端通过电容性耦合元件(30)彼此耦合并且在另一端通过电感性耦合元件(31)彼此耦合,所述导线分段分别具有近似λi/4的有效长度,其中λi是将要通过所述路径(13)传输的差模信号的波长。通过以在相邻导线分段(20,21;21,22)的至少一部分上电延伸的分布式元件的形式提供所述元件(30,31),可以实现非常薄的传输路径(13),其特别适用于侵入式导管。此外,由于共模共振被有效地抑制,因此该路径(13)可以被引导通过磁共振(MR)成像系统的RF场。

    由磁共振成像监控的介入过程的导管尖端跟踪

    公开(公告)号:CN1849521A

    公开(公告)日:2006-10-18

    申请号:CN200480025831.9

    申请日:2004-09-01

    IPC分类号: G01R33/28 A61B5/055

    摘要: 一种跟踪装置(20,20’),在有关对象(12)上执行并由磁共振成像监控的介入过程期间用于跟踪诸如导管(10)的介入器械的尖端(14),所述跟踪装置包括布置在导管(10)的尖端(14)的谐振电路(22)。谐振电路(22)包括具有线圈电感的线圈(32,32’)和光敏金属-绝缘体-半导体电容器(30),所述的光敏金属-绝缘体-半导体电容器与光纤(36)光耦合并具有由光纤(36)传递到其的光强度确定的可选择电容,谐振电路(22)的所选谐振频率由线圈电感和所选电容确定。共振频率通过调节传递到光敏金属-绝缘体-半导体电容器(30)的光强度来调节。

    由磁共振成像监测的介入过程的导管尖端跟踪

    公开(公告)号:CN1849521B

    公开(公告)日:2010-06-16

    申请号:CN200480025831.9

    申请日:2004-09-01

    IPC分类号: G01R33/28 A61B5/055

    摘要: 一种跟踪装置(20,20’),在在有关对象(12)上执行并由磁共振成像监控的介入过程期间用于跟踪诸如导管(10)的介入器械的尖端(14),所述跟踪装置包括布置在导管(10)的尖端(14)的谐振电路(22)。谐振电路(22)包括具有线圈电感的线圈(32,32’)和光敏金属-绝缘体-半导体电容器(30),所述的光敏金属-绝缘体-半导体电容器与光纤(36)光耦合并具有由光纤(36)传递到其的光强度确定的可选择电容,谐振电路(22)的所选谐振频率由线圈电感和所选电容确定。共振频率通过调节传递到光敏金属-绝缘体-半导体电容器(30)的光强度来调节。