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公开(公告)号：CN1310843C
公开(公告)日：2007-04-18
申请号：CN200410095252.3
申请日：2004-11-22
申请人： 硅电子股份公司
CPC分类号： C01B13/10 , A61L2/183 , A61L2202/15 , C02F1/78 , C02F2103/04
摘要： 一种将臭氧化水自臭氧化水制过装置送至与该装置有一段距离的使用地点并对该使用地点供应调节至预期浓度的臭氧化水的方法，其包括：在不暴露于环境空气的情况下，在该臭氧化水制造装置附近的点，该点位于臭氧化水制造装置和使用地点之间，并落在从臭氧化水制造装置至使用地点的1/2距离内，于原质臭氧化水内添加稀释水，将待添加稀释水的量加以调节以使臭氧化水在使用地点具有预期的浓度，随后经由管线将该臭氧化水导引至使用地点。
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公开(公告)号：CN1636889A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200410095253.8
申请日：2004-11-22
申请人： 硅电子股份公司
CPC分类号： C01B13/10 , C02F1/008 , C02F1/78 , C02F2209/23
摘要： 本发明提供一种装置，该装置可保持臭氧化水的浓度且免受所用臭氧化水量波动的影响。还提供一种用以供应恒浓度臭氧化水的方法，该方法包括采用臭氧化水制造装置及于该装置以外的地点使用该臭氧化水的系统，于该臭氧化水制造装置及臭氧化水使用地点之间配置循环管线，在该循环管线内循环臭氧化水，以使臭氧化水制造装置出口处流速恒定，监控该出口附近的臭氧浓度，依据监控结果调节供给臭氧化水制造装置的臭氧量及/或臭氧气体浓度，进一步监控臭氧化水使用地点的臭氧化水量，并依据该监控结果控制待制造的臭氧化水量。即使在使用地点暂时中断使用臭氧化水时，该臭氧化水仍可使用不必丢弃。可制造及供应恒浓度的臭氧化水并对臭氧进行有效利用。
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公开(公告)号：CN1318317C
公开(公告)日：2007-05-30
申请号：CN200410095253.8
申请日：2004-11-22
申请人： 硅电子股份公司
CPC分类号： C01B13/10 , C02F1/008 , C02F1/78 , C02F2209/23
摘要： 本发明提供一种装置，该装置可保持臭氧化水的浓度且免受所用臭氧化水量波动的影响。还提供一种用以供应恒浓度臭氧化水的方法，该方法包括采用臭氧化水制造装置及于该装置以外的地点使用该臭氧化水的系统，于该臭氧化水制造装置及臭氧化水使用地点之间配置循环管线，在该循环管线内循环臭氧化水，以使臭氧化水制造装置出口处流速恒定，监控该出口附近的臭氧浓度，依据监控结果调节供给臭氧化水制造装置的臭氧量及/或臭氧气体浓度，进一步监控臭氧化水使用地点的臭氧化水量，并依据该监控结果控制待制造的臭氧化水量。即使在使用地点暂时中断使用臭氧化水时，该臭氧化水仍可使用不必丢弃。可制造及供应恒浓度的臭氧化水并对臭氧进行有效利用。
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公开(公告)号：CN1636890A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN200410095252.3
申请日：2004-11-22
申请人： 硅电子股份公司
CPC分类号： C01B13/10 , A61L2/183 , A61L2202/15 , C02F1/78 , C02F2103/04
摘要： 一种将臭氧化水自臭氧化水制过装置送至与该装置有一段距离的使用地点并对该使用地点供应调节至预期浓度的臭氧化水的方法，其特征为：在不暴露于环境空气的情况下，在该臭氧化水制造装置附近，于原质臭氧化水内添加稀释水，将待添加稀释水的量加以调节以使臭氧化水在使用地点具有预期的浓度，随后经由管线将该臭氧化水导引至使用地点。
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