-
公开(公告)号：CN117848273A
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202410043926.2
申请日：2024-01-11
申请人： 福建华佳彩有限公司
IPC分类号： G01B21/30
摘要： 本发明公开了一种蒸镀机接触板平坦度判断装置及方法，涉及蒸镀机技术领域。所述装置包括：至少一张压敏纸，放置于掩膜板框架的上表面；多个承压单元，均匀放置于掩膜板框架上的压敏纸的上表面；每一承压单元包括：一载台，包括多个垂直方向的通孔，每一通孔的顶端设置有一凹槽，每一凹槽内设置一中空的弹性件；多个顶针，每一顶针穿设于一弹性件和通孔，且顶针的尖端为靠近压敏纸的一端，当顶针顶部承受接触板的压力时，顶针的尖端将压力传导至压敏纸。本发明通过承压单元内的顶针将接触板的压力传导至压敏纸，从而根据压敏纸的颜色深浅一致性判断接触板平坦度，节省人力，缩短测量时间，提高稼动率及生产效率。
-
公开(公告)号：CN116536622A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202310441040.9
申请日：2023-04-23
申请人： 福建华佳彩有限公司
摘要： 本发明公开了一种高分辨率掩膜条、掩膜板及掩膜条的制作方法，涉及高精细掩膜板技术领域。所述高分辨率掩膜条包括：蒸镀子像素开孔区，对应于显示面板区域设置；蚀刻减薄区，蚀刻形成于所述高分辨率掩膜条的第二蚀刻面，且面积大于所述蒸镀子像素开孔区；补偿蚀刻区，蚀刻形成于所述高分辨率掩膜条的第一蚀刻面，且位于两蒸镀子像素开孔区之间，用于补偿所述蚀刻减薄区。本发明提供的一种高分辨率掩膜条、掩膜板及掩膜条的制作方法，通过在掩膜条两面分别蚀刻形成蚀刻减薄区和补偿蚀刻区，并在蚀刻减薄区内形成蒸镀子像素开孔区，从而减小像素开孔间隙以提高分辨率。
-
公开(公告)号：CN115216739A
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202211031677.2
申请日：2022-08-26
申请人： 福建华佳彩有限公司
摘要： 本发明公开了一种OLED蒸镀生产静电消除装置及方法，涉及OLED生产技术领域。所述装置包括：光罩；至少一个遮挡区，设置于所述光罩的基材上，所述遮挡区与玻璃基板上OLED镀膜区一一对应，且每一所述遮挡区的面积均不小于对应的OLED镀膜区的面积；定位区，设置于所述光罩的基材上，用于与感应装置配合对所述光罩进行定位；静电消除光源，设置于所述光罩上方。本发明提供的一种OLED蒸镀生产静电消除装置及方法，使带有OLED镀膜的玻璃基板在真空环境下可以有效消除静电，实现简单且无需另增设专门除静电腔体，成本低，还可以对应多种OLED产品，提高产品良率。
-
公开(公告)号：CN113985697A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202111326711.4
申请日：2021-11-10
申请人： 福建华佳彩有限公司
IPC分类号： G03F1/82
摘要： 本发明公开了一种掩膜板清洗装置及方法，括可开闭清洗槽、药剂循环蒸馏部、掩膜板固定治具以及治具吊装推进机构，所述药剂循环蒸馏部通过药剂供应管道向可开闭清洗槽内的喷淋管供应对可开闭清洗槽上装载的掩膜板进行清洗洁净的药剂，所述掩膜板固定治具用于装载固定掩膜板，且掩膜板固定治具装载于旋转部上，所述治具吊装推进机构包括给进机构以及吊装机构，所述吊装机构将装载掩膜板后的掩膜板固定治具投入或者提拉出可开闭清洗槽，所述给进机构推进吊装机构平移，将掩膜板固定治具对应投入有不同种类药剂的可开闭清洗槽，可实现洁净药剂与非洁净药剂的不同比例混合对掩膜板清洗，且旋转部可实现掩膜板180°换向清洗，清洗效果好。
-
公开(公告)号：CN113843222A
公开(公告)日：2021-12-28
申请号：CN202111300335.1
申请日：2021-11-04
申请人： 福建华佳彩有限公司
摘要： 本发明公开了一种有机物清洁及残留检测装置及方法，包括密闭腔体以及控制模块，在密闭腔体内放置坩埚或掩模板，在密闭腔体内设置紫外光灯以及漫反射板，且密闭腔体上连接有用于通入气体的进气端且连接有用于排出气体的出气端，在进气端以及出气端均设置检测进气的水分含量的水百分比传感器以及管路控制阀，向着密闭腔体内通入干燥空气或氮气，配合紫外光灯的照射以及漫反射板辅助紫外光覆盖，利用紫外光灯光照射在工件表面，有机物受紫外光照射C‑H键破坏后裂解成H2O、CO2、NO等气体产物，紫外清洁的原理能够有效的实现有机物的清洁，对工件进行杀菌清洁，密闭腔体供坩埚或者掩模板的长期存放，避免环境颗粒杂质的污染，有利于提升蒸镀良率。
-
公开(公告)号：CN112164707A
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN202010894827.7
申请日：2020-08-31
申请人： 福建华佳彩有限公司
摘要： 本发明公开了一种柔性显示面板的制备方法，包括步骤：在基板上涂布材料层，材料层用于吸收和反射激光；并于材料层上涂布PI溶液，阶段升温干燥PI溶液，形成柔性基板层；制作TFT阵列膜层于柔性基板层上；制作发光层，并于发光层上制作薄膜封装层，薄膜封装层包覆于发光层上；切割带有基板的柔性显示面板；激光照射材料层，将所述柔性基板层与基板分离。在基板剥离过程中激光在材料表面与材料的微观粒子的相互作用是一个全量子化的能量交换过程。激光入射到材料表面后，能量为E0的光能将一部分被反射，剩余能量则被物体吸收。在本申请中材料层将激光吸收和反射掉，不将残余激光能量透过柔性基板影响TFT阵列结构。
-
公开(公告)号：CN112144017A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010938628.1
申请日：2020-09-09
申请人： 福建华佳彩有限公司
发明人： 张麒麟
摘要： 本发明涉及镀膜技术领域，特别涉及一种玻璃基板镀膜装置，包括蒸发源挡板、掩膜板和蒸发源，蒸发源挡板位于掩膜板和蒸发源之间，蒸发源挡板包括四个以上的遮挡板，四个以上的遮挡板之间相互滑动连接，掩膜板上设有两个以上的缓冲条，两个以上的缓冲条将掩膜板划分成若干个无缓冲区域，一个遮挡板对应一个无缓冲区域，通过设置缓冲条，能够避免各器件叠加造成突起与玻璃基板不能完全重叠，引起混色问题；四个以上的遮挡板之间相互滑动连接，以及缓冲条的配合，使得能够在一块玻璃基板上实现单色或全彩器件成膜，大大提高了器件研发过程中基板及材料消耗量，缩短了研发周期提高了设备利用率。
-
公开(公告)号：CN112144017B
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202010938628.1
申请日：2020-09-09
申请人： 福建华佳彩有限公司
发明人： 张麒麟
摘要： 本发明涉及镀膜技术领域，特别涉及一种玻璃基板镀膜装置，包括蒸发源挡板、掩膜板和蒸发源，蒸发源挡板位于掩膜板和蒸发源之间，蒸发源挡板包括四个以上的遮挡板，四个以上的遮挡板之间相互滑动连接，掩膜板上设有两个以上的缓冲条，两个以上的缓冲条将掩膜板划分成若干个无缓冲区域，一个遮挡板对应一个无缓冲区域，通过设置缓冲条，能够避免各器件叠加造成突起与玻璃基板不能完全重叠，引起混色问题；四个以上的遮挡板之间相互滑动连接，以及缓冲条的配合，使得能够在一块玻璃基板上实现单色或全彩器件成膜，大大提高了器件研发过程中基板及材料消耗量，缩短了研发周期提高了设备利用率。
-
公开(公告)号：CN117899512A
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202410056361.1
申请日：2024-01-15
申请人： 福建华佳彩有限公司
IPC分类号： B01D3/10
摘要： 本发明提供一种溶剂减压蒸馏装置及纯化方法，减压蒸馏装置包括有清洗槽，清洗槽连接有减压蒸馏槽，减压蒸馏槽连接有冷凝槽，冷凝槽连接有三通减压阀，三通减压阀具有第一端口、第二端口和第三端口，第一端口与冷凝槽连接，减压蒸馏装置还包括有循环槽，循环槽连接有循环泵，循环泵与第二端口连接，第三端口与循环槽连接。冷凝槽连接有浓度传感器，减压蒸馏装置还包括有控制单元，控制单元与循环泵、减压蒸馏槽和浓度传感器电性连接。本发明通过循环泵的运行来维持减压蒸馏槽内的真空度，减少了设备成本。通过设置浓度传感器监控溶剂纯度，并依此调整蒸馏温度及真空度，避免溶剂在高温时的进一步裂解，导致杂质增多，引起清洗不佳的问题。
-
公开(公告)号：CN116334570A
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202310111113.8
申请日：2023-02-13
申请人： 福建华佳彩有限公司
摘要： 本发明提供了一种双通道输出镀率侦测装置，包括有输出通道载盘、电极载盘和晶振片载盘，输出通道载盘固定在电机的外壳上，电极载盘和晶振片载盘由电机轴带动旋转，且晶振片载盘设置在电极载盘远离输出通道载盘的一侧；输出通道载盘连接有电源模块，晶振片载盘以电机轴为中心，环形阵列设置有复数个安装孔，每一安装孔内设置有一颗晶振片，晶振片通过电极载盘与电源模块导通，输出通道载盘连接有用于遮盖电极载盘和晶振片载盘的罩壳，罩壳开设有能同时露出两颗晶振片的腰型孔。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
74 条记录 (耗时 0.029 秒)
