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公开(公告)号：CN103828085B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201280038614.8
申请日：2012-08-09
申请人： 科迪华公司
CPC分类号： B41J2/145 , B41J2/01 , B41J2/155 , B41J3/407 , B41J13/0009 , B41J13/16 , B41J2202/20 , H01L51/56
摘要： 本发明提供膜形成设备、系统和方法。所述设备可以包括衬底定位系统和包括喷墨打印阵列和/或热敏打印阵列的打印阵列。该定位系统可以是气体支承板系统。定位系统可以被配置为使得衬底在远离打印阵列的第一位置和位于打印阵列上方的第二位置之间移动。所述设备、系统和方法可以用于制造有机发光装置（OLED），例如，平板显示器。
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公开(公告)号：CN106299116A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610621627.8
申请日：2012-08-09
申请人： 科迪华公司
摘要： 本发明提供膜形成设备、系统和方法。所述设备可以包括衬底定位系统和包括喷墨打印阵列和/或热敏打印阵列的打印阵列。该定位系统可以是气体支承板系统。定位系统可以被配置为使得衬底在远离打印阵列的第一位置和位于打印阵列上方的第二位置之间移动。所述设备、系统和方法可以用于制造有机发光装置(OLED)，例如，平板显示器。
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公开(公告)号：CN103828085A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201280038614.8
申请日：2012-08-09
申请人： 科迪华公司
CPC分类号： B41J2/145 , B41J2/01 , B41J2/155 , B41J3/407 , B41J13/0009 , B41J13/16 , B41J2202/20 , H01L51/56
摘要： 本发明提供膜形成设备、系统和方法。所述设备可以包括衬底定位系统和包括喷墨打印阵列和/或热敏打印阵列的打印阵列。该定位系统可以是气体支承板系统。定位系统可以被配置为使得衬底在远离打印阵列的第一位置和位于打印阵列上方的第二位置之间移动。所述设备、系统和方法可以用于制造有机发光装置（OLED），例如，平板显示器。
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公开(公告)号：CN106299116B
公开(公告)日：2019-07-12
申请号：CN201610621627.8
申请日：2012-08-09
申请人： 科迪华公司
摘要： 本发明提供膜形成设备、系统和方法。所述设备可以包括衬底定位系统和包括喷墨打印阵列和/或热敏打印阵列的打印阵列。该定位系统可以是气体支承板系统。定位系统可以被配置为使得衬底在远离打印阵列的第一位置和位于打印阵列上方的第二位置之间移动。所述设备、系统和方法可以用于制造有机发光装置(OLED)，例如，平板显示器。
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公开(公告)号：CN106113943B
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201610500113.7
申请日：2012-08-09
申请人： 科迪华公司
CPC分类号： B41J2/145 , B41J2/01 , B41J2/155 , B41J3/407 , B41J13/0009 , B41J13/16 , B41J2202/20 , H01L51/56
摘要： 本发明提供膜形成设备、系统和方法。所述设备可以包括衬底定位系统和包括喷墨打印阵列和/或热敏打印阵列的打印阵列。该定位系统可以是气体支承板系统。定位系统可以被配置为使得衬底在远离打印阵列的第一位置和位于打印阵列上方的第二位置之间移动。所述设备、系统和方法可以用于制造有机发光装置（OLED），例如，平板显示器。
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公开(公告)号：CN106113943A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201610500113.7
申请日：2012-08-09
申请人： 科迪华公司
CPC分类号： B41J2/145 , B41J2/01 , B41J2/155 , B41J3/407 , B41J13/0009 , B41J13/16 , B41J2202/20 , H01L51/56
摘要： 本发明提供膜形成设备、系统和方法。所述设备可以包括衬底定位系统和包括喷墨打印阵列和/或热敏打印阵列的打印阵列。该定位系统可以是气体支承板系统。定位系统可以被配置为使得衬底在远离打印阵列的第一位置和位于打印阵列上方的第二位置之间移动。所述设备、系统和方法可以用于制造有机发光装置（OLED），例如，平板显示器。
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