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公开(公告)号:CN101852976B
公开(公告)日:2013-01-09
申请号:CN200910265985.X
申请日:2005-05-06
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G03B21/16
CPC classification number: G03B21/16 , F21V29/51 , F21V29/56 , F21V29/60 , F21V29/70 , F21Y2115/10 , F28D15/0275
Abstract: 本发明提供了一种投射设备,该投射设备包括:产生投射用光的发光二极管(LED);耦合到所述发光二极管以向所述发光二极管供给功率的电源;热耦合到所述发光二极管的冷却系统;提供关于从所述发光二极管输出的光量的信息的光输出监测器;以及耦合到所述电源、所述冷却系统、及所述光输出监测器的处理器,其被配置为至少部分地基于从所述光输出监测器所提供的信息来至少控制所述电源和所述冷却系统。
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公开(公告)号:CN1939053B
公开(公告)日:2011-10-26
申请号:CN200580010273.3
申请日:2005-03-14
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本发明提供投影装置的热管理。采用固态光源来形成投影装置,所述固态光源具有相关联或集成的传感器来监测所述固态光源的一区域的热状态。所述传感器被设置为输出表示所监测区域的热状态的信号。在各种实施例中,还设置有控制器以至少部分地基于所述信号表示的所述区域的热状态而有条件地启动一个或更多个热管理动作。
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公开(公告)号:CN101852976A
公开(公告)日:2010-10-06
申请号:CN200910265985.X
申请日:2005-05-06
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: G03B21/16
CPC classification number: G03B21/16 , F21V29/51 , F21V29/56 , F21V29/60 , F21V29/70 , F21Y2115/10 , F28D15/0275
Abstract: 本发明提供了一种投射设备,该投射设备包括:产生投射用光的发光二极管(LED);耦合到所述发光二极管以向所述发光二极管供给功率的电源;热耦合到所述发光二极管的冷却系统;提供关于从所述发光二极管输出的光量的信息的光输出监测器;以及耦合到所述电源、所述冷却系统、及所述光输出监测器的处理器,其被配置为至少部分地基于从所述光输出监测器所提供的信息来至少控制所述电源和所述冷却系统。
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公开(公告)号:CN1985523B
公开(公告)日:2011-07-06
申请号:CN200580021024.4
申请日:2005-04-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor: 大卫·E·斯洛博丁
CPC classification number: G09G3/3413 , G09G2310/0235 , G09G2310/0237 , G09G2310/066 , G09G2320/062 , G09G2320/0626 , G09G2320/064 , H04N9/3114 , H04N9/315
Abstract: 本发明公开了投影设备的操作方法以及投影设备。该投影系统装备有控制器,该控制器是被配备用来以提高发光器件的工作寿命、提供峰值白色的能力和/或更精细的灰度级的方式驱动所述投影系统的光源的发光器件。
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