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1.

发明授权
微粒测量方法、用于测量的基板、以及测量装置有权

公开(公告)号：CN101424612B

公开(公告)日：2013-08-28

申请号：CN200810173297.6

申请日：2008-10-31

申请人： 索尼株式会社

发明人： 古木基裕 , 今西慎吾 , 筱田昌孝 , 铃木明俊 , 三宅和司

IPC分类号： G01N15/00 , G01N21/00 , G01N33/483

CPC分类号： G01N15/1425 , G01N15/1436 , G01N15/1459 , G01N15/1484 , G01N21/6428 , G01N21/645 , G01N2015/1006 , G01N2015/1497 , G01N2021/058 , G01N2021/6419 , G01N2021/6421 , G01N2201/10 , G01N2201/11

摘要： 本发明披露了一种能够获得高测量精度的微粒测量方法、用于测量的基板以及测量装置。所述微粒测量方法通过用光扫描样品流体通道而对引入到以预定距离设置在基板上的多个样品流体通道中的微粒进行光学测量。该方法包括：用光顺序照射至少两个或更多个与样品流体通道一起设置的参考区域；检测由参考区域引起的在光中发生的光学特性的变化；以及控制光对样品流体通道的发射时间。

2.

发明公开
微粒测量方法、用于测量的基板、以及测量装置有权

公开(公告)号：CN101424612A

公开(公告)日：2009-05-06

申请号：CN200810173297.6

申请日：2008-10-31

申请人： 索尼株式会社

发明人： 古木基裕 , 今西慎吾 , 筱田昌孝 , 铃木明俊 , 三宅和司

IPC分类号： G01N15/00 , G01N21/00 , G01N33/483

CPC分类号： G01N15/1425 , G01N15/1436 , G01N15/1459 , G01N15/1484 , G01N21/6428 , G01N21/645 , G01N2015/1006 , G01N2015/1497 , G01N2021/058 , G01N2021/6419 , G01N2021/6421 , G01N2201/10 , G01N2201/11

摘要： 本发明披露了一种能够获得高测量精度的微粒测量方法、用于测量的基板以及测量装置。所述微粒测量方法通过用光扫描样品流体通道而对引入到以预定距离设置在基板上的多个样品流体通道中的微粒进行光学测量。该方法包括：用光顺序照射至少两个或更多个与样品流体通道一起设置的参考区域；检测由参考区域引起的在光中发生的光学特性的变化；以及控制光对样品流体通道的发射时间。