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公开(公告)号:CN1143959A
公开(公告)日:1997-02-26
申请号:CN94195063.8
申请日:1994-03-22
Applicant: 组合化学工业株式会社 , 庵原化学工业株式会社
IPC: C07D401/06 , C07D401/14 , C07D405/14 , C07D409/14 , C07D491/048
CPC classification number: A01N43/54 , A01N43/90 , C07D401/06 , C07D401/14 , C07D405/14 , C07D409/14 , C07D491/04
Abstract: 一种以下式表示的烟酸衍生物及其盐,和以其为有效成分的除草剂,[I]或[II],[式中,A表示取代的苯基,6或6员杂环,R表示羟基、可被取代的烷氧基、或可被取代的苄氧基,R1、R2相同或不同地表示烷氧基或卤原子,R3及R4相同或不同地表示氢原子、羟基、氰基或烷氧基羰基或R3、R4一起表示氧原子。X为卤原子,烷基,或烷氧基,n表示0或1-2的整数,Z表示次甲基或氮原子]。本发明的化合物及其盐可对发生于如稻、小麦、棉花、玉米等的作物栽培地的一年生或多年生的杂草在从苗前至生长期的长期间内,以极低的药量进行防治。
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公开(公告)号:CN1095379A
公开(公告)日:1994-11-23
申请号:CN93117053.2
申请日:1993-08-31
Applicant: 组合化学工业株式会社 , 庵原化学工业株式会社
IPC: C07D407/12 , C07D407/14 , A01N43/54
Abstract: 式(I)的缩合杂环衍生物(其中R是羟基,R3或R4为烷氧基,W是氧原子,Yn是氢原子,Z是次甲基,以及A是可取代的5-元或6-元杂环,以及作为除草剂。当施用于稻田土壤处理,旱田土壤处理和叶处理时,本发明的缩合杂环衍生物显示了优良的抗禾本料草和非禾本科草而不危害作物的除草活性。
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公开(公告)号:CN1048725C
公开(公告)日:2000-01-26
申请号:CN94195063.8
申请日:1994-03-22
Applicant: 组合化学工业株式会社 , 庵原化学工业株式会社
IPC: C07D401/06 , C07D401/14 , C07D405/14 , C07D409/14 , C07D491/048 , A61K31/44
CPC classification number: A01N43/54 , A01N43/90 , C07D401/06 , C07D401/14 , C07D405/14 , C07D409/14 , C07D491/04
Abstract: 一种以下式表示的烟酸衍生物及其盐,和以其为有效成分的除草剂,[式中,A表示取代的苯基,5或6员杂环,R表示羟基、可被取代的烷氧基、或可被取代的苄氧基,R1、R2相同或不同地表示烷氧基或卤原子,R3及R4相同或不同地表示氢原子、羟基、氰基或烷氧基羰基或R3、R4一起表示氧原子。X为卤原子,烷基,或烷氧基,n表示0或1-2的整数,Z表示次甲基或氮原子]。本发明的化合物及其盐可对发生于如稻、小麦、棉花、玉米等的作物栽培地的一年生或多年生的杂草在从苗前至生长期的长期间内,以极低的药量进行防治。
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公开(公告)号:CN1044369C
公开(公告)日:1999-07-28
申请号:CN93104931.8
申请日:1993-04-23
Applicant: 组合化学工业株式会社 , 伊原化学工业株式会社
IPC: C07D401/12 , A01N43/54
CPC classification number: C07D231/12 , A01N43/40 , A01N43/50 , A01N43/54 , A01N43/76 , A01N43/84 , A01N47/18 , A01N47/24 , A01N47/36 , A01N47/42 , A01N47/46 , C07D233/56 , C07D249/08 , C07D401/12 , C07D401/14 , C07D409/14 , C07D413/14
Abstract: 下式所示的吡啶甲酸衍生物:式中R1和R2分别为烷氧基,X1为下式基团:式中R3为氢原子,和R4为卤代烷基,或R3和R4为相邻于氮原子结构,叠氮基,而R9为氢原子,烷基,链烯基,苄基,碱金属原子,碱土金属原子或有机铵阳离子,或其盐。
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公开(公告)号:CN1078721A
公开(公告)日:1993-11-24
申请号:CN93104931.8
申请日:1993-04-23
Applicant: 组合化学工业株式会社 , 伊原化学工业株式会社
IPC: C07D401/12 , A01N43/54
CPC classification number: C07D231/12 , A01N43/40 , A01N43/50 , A01N43/54 , A01N43/76 , A01N43/84 , A01N47/18 , A01N47/24 , A01N47/36 , A01N47/42 , A01N47/46 , C07D233/56 , C07D249/08 , C07D401/12 , C07D401/14 , C07D409/14 , C07D413/14
Abstract: 下式所示的吡啶甲酸衍生物:式中R1和R2分别为烷氧基,X1为上式基团。式中R3为氢原子,和R4为卤代烷基,或R3和R4为相邻于氮原子结构,叠氮基,而R9为氢原子,烷基,链烯基,苄基,碱金属原子,碱土金属原子或有机铵阳离子,或其盐。
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公开(公告)号:CN1206008A
公开(公告)日:1999-01-27
申请号:CN98109533.X
申请日:1993-04-23
Applicant: 组合化学工业株式会社 , 伊原化学工业株式会社
IPC: C07D401/12 , A01N43/54
Abstract: 右式所示的吡啶甲酸衍生物:式中R1和R2分别为烷氧基,X1为下式基团:式中R3为氢原子,和R4为卤代烷基,或R3和R4为相邻于氮原子结构,叠氮基,而R9为氢原子,烷基,链烯基,苄基,碱金属原子,碱土金属原子或有机铵阳离子,或其盐。
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