-
公开(公告)号:CN102781830B
公开(公告)日:2015-06-17
申请号:CN201080056298.8
申请日:2010-10-27
Applicant: 维尔萨利斯股份公司
CPC classification number: C01B31/0476 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B31/043 , C01B32/192 , C01B32/23 , C01B2204/04 , C01B2204/22 , C01B2204/30 , C01B2204/32 , Y10T428/2982
Abstract: 一种制造纳米级石墨烯薄片的方法,包括:a)使石墨材料与分子或原子氧或能够释放分子或原子氧的物质接触,以获得由用氧基官能化的石墨材料(FOG)构成的前体,其特征在于碳/氧摩尔比高于8:1,b)随后还原(化学或物理)所述FOG前体,以获得纳米级石墨烯薄片,其特征在于碳/氧摩尔比高于20:1。
-
公开(公告)号:CN102781830A
公开(公告)日:2012-11-14
申请号:CN201080056298.8
申请日:2010-10-27
Applicant: 维尔萨利斯股份公司
CPC classification number: C01B31/0476 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B31/043 , C01B32/192 , C01B32/23 , C01B2204/04 , C01B2204/22 , C01B2204/30 , C01B2204/32 , Y10T428/2982
Abstract: 一种制造纳米级石墨烯薄片的方法,包括:a)使石墨材料与分子或原子氧或能够释放分子或原子氧的物质接触,以获得由用氧基官能化的石墨材料(FOG)构成的前体,其特征在于碳/氧摩尔比高于8∶1,b)随后还原(化学或物理)所述FOG前体,以获得纳米级石墨烯薄片,其特征在于碳/氧摩尔比高于20∶1。
-