公开(公告)号：CN102203327B

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：CN200980142329.9

申请日：2009-10-22

申请人： 罗姆股份有限公司 ,  熔盐电化学技术开发株式会社

发明人： 鹤见直明 ,  伊藤靖彦 ,  德重学 ,  里见刚 ,  锦织德二郎 ,  辻村浩行

IPC分类号： C25D9/08 ,  C25D11/00 ,  C25D11/02 ,  H01G4/08

CPC分类号： H01G4/12 ,  C25D3/66 ,  C25D5/18 ,  C25D9/04 ,  Y10T428/31678

摘要： 本发明提供可以在被处理材料表面形成均匀的具有优良附着性能的含硼薄膜的形成方法以及叠层结构体。电解装置装配有阳极1、作为阴极的被处理材料2、电解槽4、熔融盐电解浴5。另外，在阳极1和被处理材料2之间连接可变电源装置6。可变电源装置6的构成使得在电解过程中能够改变电压波形或电流波形。通过在熔融盐中流过适当脉冲波形的电流进行电解，甚至在复杂形状的被处理材料2内部也可以形成均匀的硼薄膜3。

公开(公告)号：CN102203327A

公开(公告)日：2011-09-28

申请号：CN200980142329.9

申请日：2009-10-22

申请人： 罗姆股份有限公司 ,  熔盐电化学技术开发株式会社

发明人： 鹤见直明 ,  伊藤靖彦 ,  德重学 ,  里见刚 ,  锦织德二郎 ,  辻村浩行

IPC分类号： C25D9/08 ,  C25D11/00 ,  C25D11/02 ,  H01G4/08

CPC分类号： H01G4/12 ,  C25D3/66 ,  C25D5/18 ,  C25D9/04 ,  Y10T428/31678

摘要： 本发明提供可以在被处理材料表面形成均匀的具有优良附着性能的含硼薄膜的形成方法以及叠层结构体。电解装置装配有阳极1、作为阴极的被处理材料2、电解槽4、熔融盐电解浴5。另外，在阳极1和被处理材料2之间连接可变电源装置6。可变电源装置6的构成使得在电解过程中能够改变电压波形或电流波形。通过在熔融盐中流过适当脉冲波形的电流进行电解，甚至在复杂形状的被处理材料2内部也可以形成均匀的硼薄膜3。