公开(公告)号：CN105453705A

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201480041564.8

申请日：2014-07-18

Applicant: 罗杰斯公司

Inventor： 杰西卡·克罗斯利

IPC: H05K1/03

CPC classification number: H05K1/0373 ,  C03C11/00 ,  C03C14/00 ,  C03C23/008 ,  C03C2214/12 ,  H05K3/4626 ,  H05K3/4652 ,  H05K2201/0209 ,  H05K2201/0254 ,  Y10T428/24893 ,  Y10T428/249971 ,  Y10T428/249974

Abstract: 公开了一种电路组件，包括导电金属层和介电基板层，该介电基板层在10GHz处具有小于约3.5的介电常数和小于约0.006的损耗因子，其中介电基板层的组合物包括约5至约70体积百分比的已经用碱溶液处理的硼硅酸盐微球。

公开(公告)号：CN105453705B

公开(公告)日：2019-07-23

申请号：CN201480041564.8

申请日：2014-07-18

Applicant: 罗杰斯公司

Inventor： 杰西卡·克罗斯利

IPC: H05K1/03

CPC classification number: H05K1/0373 ,  C03C11/00 ,  C03C14/00 ,  C03C23/008 ,  C03C2214/12 ,  H05K3/4626 ,  H05K3/4652 ,  H05K2201/0209 ,  H05K2201/0254 ,  Y10T428/24893 ,  Y10T428/249971 ,  Y10T428/249974

Abstract: 公开了一种电路组件，包括导电金属层和介电基板层，该介电基板层在10GHz处具有小于约3.5的介电常数和小于约0.006的损耗因子，其中介电基板层的组合物包括约5至约70体积百分比的已经用碱溶液处理的硼硅酸盐微球。

公开(公告)号：CN109951952B

公开(公告)日：2022-02-01

申请号：CN201910016547.3

申请日：2014-07-18

Applicant: 罗杰斯公司

Inventor： 杰西卡·克罗斯利

IPC: H05K1/03 ,  D21H13/00

Abstract: 公开了一种电路组件，包括导电金属层和介电基板层，该介电基板层在10GHz处具有小于约3.5的介电常数和小于约0.006的损耗因子，其中介电基板层的组合物包括已经用碱溶液处理的硼硅酸盐微球。

公开(公告)号：CN109951952A

公开(公告)日：2019-06-28

申请号：CN201910016547.3

申请日：2014-07-18

Applicant: 罗杰斯公司

Inventor： 杰西卡·克罗斯利

IPC: H05K1/03 ,  D21H13/00

Abstract: 公开了一种电路组件，包括导电金属层和介电基板层，该介电基板层在10GHz处具有小于约3.5的介电常数和小于约0.006的损耗因子，其中介电基板层的组合物包括已经用碱溶液处理的硼硅酸盐微球。