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公开(公告)号:CN105506671A
公开(公告)日:2016-04-20
申请号:CN201510916128.7
申请日:2015-09-10
申请人: 美铝公司
摘要: 本申请涉及保护电解槽侧壁的系统与方法。广义上,本公开涉及电解槽侧壁特征(例如内部侧壁或热表面),其在电解槽操作时(例如在电解槽中生产金属)保护侧壁不受电解槽浴影响。
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公开(公告)号:CN104047025A
公开(公告)日:2014-09-17
申请号:CN201410093321.0
申请日:2014-03-13
申请人: 美铝公司
摘要: 提供了一种系统,包括:被设置用于保留熔融电解液的电解池,所述电解液包括至少一种电解液成分,所述电解池包括底部和基本上由所述至少一种电解液成分构成的侧壁;以及进料系统,被设置用于向熔融电解液提供包括所述至少一种电解液成分的进料,以使所述至少一种电解液成分处于约2%的饱和度以内,其中,侧壁通过进料而在熔融电解液内保持稳定。
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公开(公告)号:CN105401170A
公开(公告)日:2016-03-16
申请号:CN201510881834.2
申请日:2015-09-10
申请人: 美铝公司
摘要: 本申请涉及保护电解槽侧壁的系统与方法。提供了一种系统,包括电解槽,该电解槽被配置为保持熔融电解液槽浴,该槽浴包含至少一种槽浴成分,该电解槽包括:底部,和基本上由所述至少一种槽浴成分构成的侧壁;和进料,所述进料包括熔融电解液槽浴中的所述至少一种槽浴成分,使得所述至少一种槽浴成分在饱和度的30%之内,其中通过所述进料,该侧壁在熔融电解液槽浴中稳定。
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公开(公告)号:CN205741233U
公开(公告)日:2016-11-30
申请号:CN201520995619.0
申请日:2015-09-10
申请人: 美铝公司
摘要: 本申请涉及电解槽及电解槽系统。提供了一种电解槽系统,该电解槽系统包括电解槽,该电解槽被配置为保持熔融电解液槽浴,该槽浴包含至少一种槽浴成分,该电解槽包括:底部,和基本上由所述至少一种槽浴成分构成的侧壁;和进料,所述进料包括熔融电解液槽浴中的所述至少一种槽浴成分,使得所述至少一种槽浴成分在饱和度的30%之内,其中通过所述进料,该侧壁在熔融电解液槽浴中稳定。
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