公开(公告)号：CN107209305A

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201680006986.0

申请日：2016-01-22

Applicant: 美题隆公司

Inventor： 罗伯特·斯普拉格

IPC: G02B5/28 ,  C23C14/06 ,  C23C14/10

Abstract: 干涉滤波器包括层堆叠，该层堆叠包括至少无定形氢化硅的层和一种或多种介电材料的层的多个层，该一种或多种介电材料的折射率在1.9至2.7的范围内并且例如为Si3N4、SiOxNy、Ta2O5、Nb2O5或TiO2。设计干涉滤波器以具有在750nm至1000nm的范围内的通频带中心波长。与使用SiO2作为低折射率层的类似干涉滤波器相比，折射率在1.9至2.7的范围内的介电材料的层提供更小的角度偏移。

公开(公告)号：CN112748488A

公开(公告)日：2021-05-04

申请号：CN202110207668.3

申请日：2016-01-22

Applicant: 美题隆公司

Inventor： 罗伯特·斯普拉格

IPC: G02B5/20 ,  G02B5/28 ,  C23C14/06 ,  C23C14/10 ,  C23C14/16 ,  C23C14/34

Abstract: 本发明涉及一种具有改进的透射率的近红外光学干涉滤波器。干涉滤波器包括层堆叠，该层堆叠包括至少无定形氢化硅的层和一种或多种介电材料的层的多个层，该一种或多种介电材料的折射率在1.9至2.7的范围内并且例如为Si3N4、SiOxNy、Ta2O5、Nb2O5或TiO2。设计干涉滤波器以具有在750nm至1000nm的范围内的通频带中心波长。与使用SiO2作为低折射率层的类似干涉滤波器相比，折射率在1.9至2.7的范围内的介电材料的层提供更小的角度偏移。

公开(公告)号：CN113218966A

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN202110500354.2

申请日：2016-06-03

Applicant: 美题隆公司

Inventor： 罗伯特·斯普拉格

IPC: G01N21/958

Abstract: 公开了用于表征光学滤光片的点瑕疵(包括小孔和点缺陷)的装置和方法。执行通带测试包括：以其光谱范围至少与光学滤光片的通带重叠的通带照明来照射光学滤光片；当利用通带照明照射光学滤光片时，使用二维光电探测器阵列获取光学滤光片的通带图；以及将光学滤光片的点缺陷识别为通带图的低强度位置。执行阻带测试包括：以其光谱范围完全位于光学滤光片的通带之外的阻带照明来照射光学滤光片；当利用阻带照明照射光学滤光片时，使用二维光电探测器阵列获取光学滤光片的阻带图；以及将光学滤光片的小孔识别为阻带图的高强度位置。

公开(公告)号：CN112585240A

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：CN201980039912.0

申请日：2019-07-25

Applicant: 美题隆公司

Inventor： 罗伯特·斯普拉格 ,  迈克尔·P·纽厄尔

IPC: C09K11/02 ,  C09K11/08

Abstract: 本发明公开了由分散在基质材料中的荧光体和介电干涉粒子形成的波长转换元件，其中基质材料为单层形式或分层形式。本发明还公开了具有这种波长转换元件的光学光转换装置、制造这种波长转换元件的方法以及使用这种波长转换元件的方法。

公开(公告)号：CN107667287B

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：CN201680032192.1

申请日：2016-06-03

Applicant: 美题隆公司

Inventor： 罗伯特·斯普拉格

IPC: G01N21/958

Abstract: 公开了用于表征光学滤光片的点瑕疵(包括小孔和点缺陷)的装置和方法。执行通带测试包括：以其光谱范围至少与光学滤光片的通带重叠的通带照明来照射光学滤光片；当利用通带照明照射光学滤光片时，使用二维光电探测器阵列获取光学滤光片的通带图；以及将光学滤光片的点缺陷识别为通带图的低强度位置。执行阻带测试包括：以其光谱范围完全位于光学滤光片的通带之外的阻带照明来照射光学滤光片；当利用阻带照明照射光学滤光片时，使用二维光电探测器阵列获取光学滤光片的阻带图；以及将光学滤光片的小孔识别为阻带图的高强度位置。

公开(公告)号：CN107209305B

公开(公告)日：2021-03-16

申请号：CN201680006986.0

申请日：2016-01-22

Applicant: 美题隆公司

Inventor： 罗伯特·斯普拉格

IPC: G02B5/28 ,  C23C14/06 ,  C23C14/10

Abstract: 干涉滤波器包括层堆叠，该层堆叠包括至少无定形氢化硅的层和一种或多种介电材料的层的多个层，该一种或多种介电材料的折射率在1.9至2.7的范围内并且例如为Si3N4、SiOxNy、Ta2O5、Nb2O5或TiO2。设计干涉滤波器以具有在750nm至1000nm的范围内的通频带中心波长。与使用SiO2作为低折射率层的类似干涉滤波器相比，折射率在1.9至2.7的范围内的介电材料的层提供更小的角度偏移。

公开(公告)号：CN107667287A

公开(公告)日：2018-02-06

申请号：CN201680032192.1

申请日：2016-06-03

Applicant: 美题隆公司

Inventor： 罗伯特·斯普拉格

IPC: G01N21/958

CPC classification number: G01N21/8806 ,  G01M11/0278 ,  G01M11/0285 ,  G01N21/255 ,  G01N21/958 ,  G01N2021/9511 ,  G01N2201/061 ,  G01N2201/068

Abstract: 公开了用于表征光学滤光片的点瑕疵(包括小孔和点缺陷)的装置和方法。执行通带测试包括：以其光谱范围至少与光学滤光片的通带重叠的通带照明来照射光学滤光片；当利用通带照明照射光学滤光片时，使用二维光电探测器阵列获取光学滤光片的通带图；以及将光学滤光片的点缺陷识别为通带图的低强度位置。执行阻带测试包括：以其光谱范围完全位于光学滤光片的通带之外的阻带照明来照射光学滤光片；当利用阻带照明照射光学滤光片时，使用二维光电探测器阵列获取光学滤光片的阻带图；以及将光学滤光片的小孔识别为阻带图的高强度位置。