用于电镀机的药水循环系统
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112663121A

    公开(公告)日:2021-04-16

    申请号:CN202110007093.0

    申请日:2021-01-05

    发明人: 邓才参 谭炳维

    摘要: 本发明公开了一种用于电镀机的药水循环系统,包括药水槽和过滤机,药水槽的横向空间依次分隔为电解仓、主药水仓、过滤药水仓,电解仓与主药水仓之间通过第一隔板分隔,主药水仓与过滤药水仓之间通过第二隔板分隔,第一隔板的高度高于第二隔板的高度且低于药水槽的深度,电解仓内设有电解装置,电解仓内的药水满后会越过第一隔板自动溢流到主药水仓,主药水仓内的药水通过过滤机过滤后送入过滤药水仓,过滤药水仓内的药水满后会越过第二隔板自动溢流回主药水仓,过滤药水仓内的药水通过药水泵送入电镀机,电镀机排出的旧药水回收至电解仓。本发明可保证药水充分流动性、提高药水质量。

    用于离心电镀机电镀缸的排水系统

    公开(公告)号:CN112626594A

    公开(公告)日:2021-04-09

    申请号:CN202110012348.2

    申请日:2021-01-05

    发明人: 邓才参 谭炳维

    摘要: 本发明公开了一种用于离心电镀机电镀缸的排水系统,包括缸体,缸体的底板设有排水孔,排水孔安装有过滤网,所述底板固定安装于一法兰的上端面,法兰的下端面中心连接有一传动轴,所述传动轴由驱动部件驱动旋转,所述法兰的上端面设有缓冲储水槽,所述排水孔通向所述缓冲储水槽,所述传动轴内部中空形成排水通道,排水通道的上端与所述缓冲储水槽相连通,排水通道的下端通过旋转接头与排水管连接,排水管上设有负压泵。本发明可促进药水循环流动,具有排水速度快且排水无残留等优点。

    用于离心电镀机电镀缸的清洗组件

    公开(公告)号:CN214193505U

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN202120013578.6

    申请日:2021-01-05

    发明人: 邓才参 谭炳维

    IPC分类号: C25D21/08 B08B9/093

    摘要: 本实用新型公开了一种用于离心电镀机电镀缸的清洗组件,包括清洗杆,清洗杆为一竖直管道,清洗杆由一驱动气缸驱动升降,清洗杆可穿过所述电镀缸的外罩中心孔下降到所述电镀缸的缸体内,还包括一用来对所述外罩内壁进行清洗的压力喷洗环,所述压力喷洗环上设有进水口和喷水孔,所述进水口连接进水管,所述喷水孔为多个且沿着压力喷洗环的圆周方向均匀布置,所述喷水孔朝向所述外罩内壁。本实用新型具有清洗效果好、清洗速度快等优点。

    用于离心电镀机的电镀缸

    公开(公告)号:CN214193501U

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN202120013582.2

    申请日:2021-01-05

    发明人: 邓才参 谭炳维

    IPC分类号: C25D17/18

    摘要: 本实用新型公开了一种用于离心电镀机的电镀缸,包括由电机驱动旋转的缸体,缸体包括阴极环、底板和上盖,所述阴极环安装于底板上,所述上盖盖设于阴极环的顶部,所述底板的中心设有圆形凸起,所述凸起的外径由底部到顶部逐渐减小,使凸起的外表面呈平滑的斜坡。本实用新型可保证所有产品被电镀、能有效提高产品合格率。

    用于电镀机的药水循环系统

    公开(公告)号:CN214193492U

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN202120013758.4

    申请日:2021-01-05

    发明人: 邓才参 谭炳维

    摘要: 本实用新型公开了一种用于电镀机的药水循环系统,包括药水槽和过滤机,药水槽的横向空间依次分隔为电解仓、主药水仓、过滤药水仓,电解仓与主药水仓之间通过第一隔板分隔,主药水仓与过滤药水仓之间通过第二隔板分隔,第一隔板的高度高于第二隔板的高度且低于药水槽的深度,电解仓内设有电解装置,电解仓内的药水满后会越过第一隔板自动溢流到主药水仓,主药水仓内的药水通过过滤机过滤后送入过滤药水仓,过滤药水仓内的药水满后会越过第二隔板自动溢流回主药水仓,过滤药水仓内的药水通过药水泵送入电镀机,电镀机排出的旧药水回收至电解仓。本实用新型可保证药水充分流动性、提高药水质量。

    用于离心电镀机电镀缸的排水系统

    公开(公告)号:CN214193502U

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN202120013789.X

    申请日:2021-01-05

    发明人: 邓才参 谭炳维

    摘要: 本实用新型公开了一种用于离心电镀机电镀缸的排水系统,包括缸体,缸体的底板设有排水孔,排水孔安装有过滤网,所述底板固定安装于一法兰的上端面,法兰的下端面中心连接有一传动轴,所述传动轴由驱动部件驱动旋转,所述法兰的上端面设有缓冲储水槽,所述排水孔通向所述缓冲储水槽,所述传动轴内部中空形成排水通道,排水通道的上端与所述缓冲储水槽相连通,排水通道的下端通过旋转接头与排水管连接,排水管上设有负压泵。本实用新型可促进药水循环流动,具有排水速度快且排水无残留等优点。

    用于离心电镀机的阳极装置

    公开(公告)号:CN214193498U

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN202120023815.7

    申请日:2021-01-05

    发明人: 邓才参 谭炳维

    IPC分类号: C25D17/12

    摘要: 本实用新型公开了一种用于离心电镀机的阳极装置,包括用于装载阳极材料的钛篮,所述钛篮可插入离心电镀机的电镀缸内向电镀药水中补充镀层金属离子,所述钛篮的底部设有绝缘块,所述绝缘块由绝缘材料制成。本实用新型可提高电镀厚度均匀性。