公开(公告)号：CN102067269A

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：CN200980123980.1

申请日：2009-06-23

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 约翰·格兰特 ,  帕特里克·斯帕林特

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/04 ,  H01J37/05 ,  H01J37/244 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/0455 ,  H01J2237/24507 ,  H01J2237/24542 ,  H01J2237/24578

Abstract: 一种离子注入系统(100)，包括：离子源(116)，构造为产生沿着射束路径(136)的离子束(104)；位于该离子源的下游的质量分析器(130)，其中，该质量分析器构造为对该离子束进行质量分析；和射束互补孔洞(330)，位于该质量分析器的下游且沿着该射束路径，该射束互补孔洞具有对应于该离子束的横截面射束包络的尺寸和形状。