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公开(公告)号：CN117776541A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311549147.1
申请日：2023-11-17
申请人： 芜湖东旭光电科技有限公司 , 东旭科技集团有限公司
IPC分类号： C03C15/00 , B24B7/24 , B24B27/00 , B24B47/12 , B08B11/04 , B08B3/08 , B08B3/02 , B08B1/12 , B08B13/00
摘要： 本公开涉及玻璃基板生产设备技术领域，尤其涉及一种玻璃基板防静电处理装置，包括：内存储有粗化处理药液的蓄水槽；表面粗化机构包括若干个辊轴，各辊轴可转动的设置于蓄水槽的内壁上，且各辊轴的外周面上套设有粗化处理件，粗化处理件外轮廓的顶部高于粗化处理药液的液面；驱动机构能够驱动辊轴转动，以能够使粗化处理件蘸取粗化处理药液并与玻璃基板下表面接触的同时带动玻璃基板沿送料方向向前移动；以及冲洗机构能够对玻璃基板上表面进行冲洗。该装置能够对玻璃基板的其中一面进行粗化处理，并且不会影响到另一面，通过提高粗糙度，降低静电的产生，进一步提高了产品品质。此外，还公开了一种玻璃基板防静电处理方法。
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公开(公告)号：CN108373042B
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN201810283650.X
申请日：2018-04-02
申请人： 芜湖东旭光电科技有限公司 , 东旭光电科技股份有限公司
摘要： 本公开涉及一种玻璃基板输送装置，包括传送部，所述传送部形成有用于承托玻璃基板的传送平面，所述传送部包括分别沿传送方向布置的第一传送单元和第二传送单元，所述第一传送单元包括用于与所述玻璃基板的无效区接触的橡胶传送件，所述第二传送单元包括用于与所述玻璃基板的有效区接触的尼龙传送件，所述橡胶传送件和所述尼龙传送件的表面处于同一平面内以形成所述传送平面，所述橡胶传送件和所述尼龙传送件的表面能够沿所述传送方向移动。该输送装置能够保证玻璃基板传输稳定性，改善玻璃基板表面的洁净度，减少了基板表面颗粒单道异常发生率，提高产品质量；并且采用尼龙传送件能够大幅减少更换时间，增加产线开机率，提高
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公开(公告)号：CN108373042A
公开(公告)日：2018-08-07
申请号：CN201810283650.X
申请日：2018-04-02
申请人： 芜湖东旭光电科技有限公司 , 东旭光电科技股份有限公司
摘要： 本公开涉及一种玻璃基板输送装置，包括传送部，所述传送部形成有用于承托玻璃基板的传送平面，所述传送部包括分别沿传送方向布置的第一传送单元和第二传送单元，所述第一传送单元包括用于与所述玻璃基板的无效区接触的橡胶传送件，所述第二传送单元包括用于与所述玻璃基板的有效区接触的尼龙传送件，所述橡胶传送件和所述尼龙传送件的表面处于同一平面内以形成所述传送平面，所述橡胶传送件和所述尼龙传送件的表面能够沿所述传送方向移动。该输送装置能够保证玻璃基板传输稳定性，改善玻璃基板表面的洁净度，减少了基板表面颗粒单道异常发生率，提高产品质量；并且采用尼龙传送件能够大幅减少更换时间，增加产线开机率，提高了产线的稳定性。
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公开(公告)号：CN208166056U
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：CN201820457178.2
申请日：2018-04-02
申请人： 芜湖东旭光电科技有限公司 , 东旭光电科技股份有限公司
摘要： 本公开涉及一种玻璃基板输送装置，包括传送部，所述传送部形成有用于承托玻璃基板的传送平面，所述传送部包括分别沿传送方向布置的第一传送单元和第二传送单元，所述第一传送单元包括用于与所述玻璃基板的无效区接触的橡胶传送件，所述第二传送单元包括用于与所述玻璃基板的有效区接触的尼龙传送件，所述橡胶传送件和所述尼龙传送件的表面处于同一平面内以形成所述传送平面，所述橡胶传送件和所述尼龙传送件的表面能够沿所述传送方向移动。该输送装置能够保证玻璃基板传输稳定性，改善玻璃基板表面的洁净度，减少了基板表面颗粒单道异常发生率，提高产品质量；并且采用尼龙传送件能够大幅减少更换时间，增加产线开机率，提高了产线的稳定性。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN213833653U
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN202021689658.5
申请日：2020-08-13
申请人： 芜湖东旭光电科技有限公司 , 东旭光电科技股份有限公司
摘要： 本实用新型提供一种传送装置，该传送装置包括：基座、多组限位结构和传送结构，多组所述限位结构沿预设方向排列，所述一组限位结构包括：第一限位组件和第二限位组件，所述第一限位组件和所述第二限位组件分别与所述基座活动连接，以使所述第一限位组件和所述第二限位组件之间的间隔距离处于预设范围内；所述传送结构具有传送平面，所述传送平面位于所述第一限位组件和所述第二限位组件之间；其中，所述第一限位组件和所述基座活动的过程中，所述第一限位组件不脱离所述基座，所述第二限位组件和所述基座活动的过程中，所述第二限位组件不脱离所述基座。
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