公开(公告)号：CN116648499A

公开(公告)日：2023-08-25

申请号：CN202180080061.1

申请日：2021-11-26

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 山田晃平 ,  西勋 ,  久保元气

IPC: C11D7/26

Abstract: 本发明在一个方式中，提供一种抑制基板树脂的损伤，且树脂掩膜去除性优异的树脂掩膜剥离用清洗剂组合物。本发明在一个方式中涉及一种树脂掩膜剥离用清洗剂组合物，其含有氢氧化季铵(成分A)、氨基醇(成分B)、芳香族醇(成分C)及水(成分D)，成分D与成分C的质量比D/C为10以上。

公开(公告)号：CN111448522B

公开(公告)日：2024-10-11

申请号：CN201880079044.4

申请日：2018-11-07

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 久保元气

IPC: G03F7/42 ,  C11D1/722 ,  C11D3/04 ,  G03F7/20 ,  B08B3/08 ,  H05K3/06 ,  H05K3/18

Abstract: 本发明提供一种树脂掩膜去除性优异且排水处理负担小的树脂掩膜剥离用清洗剂组合物。本发明在一个方案中涉及一种树脂掩膜剥离用清洗剂组合物，其含有无机碱(成分A)、下述通式(I)所示的表面活性剂(成分B)及水(成分C)，成分B的根据戴维斯法所得的HLB为4.9以上且7.9以下。R1‑O‑(EO)n(PO)m‑H(I)。其中，式(I)中，R1表示选自碳数8以上且14以下的直链或支链的烷基及碳数8以上且14以下的直链或支链的烯基中的至少1种，EO表示亚乙氧基，n是EO的平均加成摩尔数并且为5以上且12以下的数，PO表示亚丙氧基，m是PO的平均加成摩尔数并且为0以上且4以下的数。

公开(公告)号：CN111448522A

公开(公告)日：2020-07-24

申请号：CN201880079044.4

申请日：2018-11-07

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 久保元气

IPC: G03F7/42 ,  C11D1/722 ,  C11D3/04 ,  G03F7/20 ,  B08B3/08 ,  H05K3/06 ,  H05K3/18

Abstract: 本发明提供一种树脂掩膜去除性优异且排水处理负担小的树脂掩膜剥离用清洗剂组合物。本发明在一个方案中涉及一种树脂掩膜剥离用清洗剂组合物，其含有无机碱(成分A)、下述通式(I)所示的表面活性剂(成分B)及水(成分C)，成分B的根据戴维斯法所得的HLB为4.9以上且7.9以下。R1-O-(EO)n(PO)m-H(I)。其中，式(I)中，R1表示选自碳数8以上且14以下的直链或支链的烷基及碳数8以上且14以下的直链或支链的烯基中的至少1种，EO表示亚乙氧基，n是EO的平均加成摩尔数并且为5以上且12以下的数，PO表示亚丙氧基，m是PO的平均加成摩尔数并且为0以上且4以下的数。