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公开(公告)号：CN102656200A
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN201080056508.3
申请日：2010-12-13
申请人： 花王株式会社
CPC分类号： C08F20/60 , C09D4/00 , C09D7/63 , C08F220/60 , C08F222/1006 , C08F226/02 , C08F226/04
摘要： 本发明的目的在于提供可获得防静电性等基本性能良好的涂膜的树脂改性剂。本发明的树脂改性剂是由R31-O-（AO）n-SO3-、R32-OSO3-或R33-SO3-所示的离子和具有聚合性不饱和基团的铵离子构成的树脂改性剂。
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公开(公告)号：CN102656200B
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201080056508.3
申请日：2010-12-13
申请人： 花王株式会社
CPC分类号： C08F20/60 , C09D4/00 , C09D7/63 , C08F220/60 , C08F222/1006 , C08F226/02 , C08F226/04
摘要： 本发明的目的在于提供可获得防静电性等基本性能良好的涂膜的树脂改性剂。本发明的树脂改性剂是由R31-O-（AO）n-SO3-、R32-OSO3-或R33-SO3-所示的离子和具有聚合性不饱和基团的铵离子构成的树脂改性剂。
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公开(公告)号：CN103958620B
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201280058883.0
申请日：2012-12-03
申请人： 花王株式会社
CPC分类号： C09D4/00 , C08F222/1006 , C09D5/24
摘要： 本发明提供抗静电性、耐水性、透明性、耐擦伤性等基本性能良好、并且能够简便地获得涂布膜的抗静电用涂布组合物，使用了该抗静电用涂布组合物的涂布膜的制造方法，以及利用该制造方法制造而得的涂布膜。本发明的抗静电用涂布组合物含有：(A)具有4个以上活性能量射线固化性的反应性基团的非离子性聚合性化合物、(B)具有1～3个活性能量射线固化性的反应性基团的非离子性聚合性化合物、以及(C)选自下述式(I)所示的化合物及式(II)所示的化合物中的至少1种的含阳离子基团的聚合性化合物。
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公开(公告)号：CN111356750A
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN201880074538.3
申请日：2018-11-02
申请人： 花王株式会社
IPC分类号： C09K3/00 , C09D133/14 , C09D143/02
摘要： 本发明为一种亲水化处理剂，其是包含共聚物的亲水化处理剂，所述共聚物包含含有甜菜碱基的特定的结构单元(A1)和具有芳香族基团的结构单元(A2)。另外，本发明为一种亲水化处理剂组合物，其含有共聚物、阴离子性表面活性剂及水，所述共聚物包含含有甜菜碱基的特定的结构单元(A1)和具有芳香族基团的结构单元(A2)。
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公开(公告)号：CN103958620A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201280058883.0
申请日：2012-12-03
申请人： 花王株式会社
CPC分类号： C09D4/00 , C08F222/1006 , C09D5/24
摘要： 本发明提供抗静电性、耐水性、透明性、耐擦伤性等基本性能良好、并且能够简便地获得涂布膜的抗静电用涂布组合物，使用了该抗静电用涂布组合物的涂布膜的制造方法，以及利用该制造方法制造而得的涂布膜。本发明的抗静电用涂布组合物含有：(A)具有4个以上活性能量射线固化性的反应性基团的非离子性聚合性化合物、(B)具有1～3个活性能量射线固化性的反应性基团的非离子性聚合性化合物、以及(C)选自下述式(I)所示的化合物及式(II)所示的化合物中的至少1种的含阳离子基团的聚合性化合物。
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