化合物及组合物
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113557222B

    公开(公告)日:2024-07-26

    申请号:CN202080020056.7

    申请日:2020-05-28

    Abstract: 本发明提供一种熔点低且能够形成疏水性高的膜的化合物、以及含有该化合物的组合物。本发明的化合物为由下述化学式(1)表示的化合物。(式中,R1及R2各自为碳数1以上且33以下的脂肪族烃基,R1与R2的合计碳数为14以上且34以下,X为单键或碳数1以上且5以下的脂肪族烃基,A为-O-CH2-CH(OH)-CH2OH或-O-CH(-CH2-OH)2。)(1)#imgabs0#

    化合物及组合物
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113557222A

    公开(公告)日:2021-10-26

    申请号:CN202080020056.7

    申请日:2020-05-28

    Abstract: 本发明提供一种熔点低且能够形成疏水性高的膜的化合物、以及含有该化合物的组合物。本发明的化合物为由下述化学式(1)表示的化合物。(式中,R1及R2各自为碳数1以上且33以下的脂肪族烃基,R1与R2的合计碳数为14以上且34以下,X为单键或碳数1以上且5以下的脂肪族烃基,A为-O-CH2-CH(OH)-CH2OH或-O-CH(-CH2-OH)2。)(1)

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