一种角度可调谐的消偏振滤光片

    公开(公告)号:CN113960707B

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN202111190812.3

    申请日:2021-10-13

    IPC分类号: G02B5/20 G02B5/28

    摘要: 本发明公开了一种角度可调谐的消偏振滤光片,属于滤光片领域,包括基片以及堆叠在基层上的膜系,膜系的膜系结构包括若干个法布里‑帕罗腔及连接层,相邻两法布里‑帕罗腔之间通过连接层连接,每一法布里‑帕罗腔结构包括第一膜堆、第二膜堆以及第三膜堆,第二膜堆位于第一膜堆以及第三膜堆之间,第一膜堆为m组HL的序列重复交替堆叠,第二膜堆为高低折射率膜层的叠加层,第三膜堆为m组LH的序列重复交替堆叠,使滤光片在特定的波长范围内透过率高,截止波段高截止,透过波段和截止波段之间的P光和S光分离量小,减少膜层厚度基础上,实现传统直接光控法进行控制,提高膜层的控制精度,实现高精度的光谱曲线。

    一种窄带滤光片的切割方法

    公开(公告)号:CN113960708B

    公开(公告)日:2024-08-27

    申请号:CN202111246153.0

    申请日:2021-10-26

    发明人: 陈尚谦 苏炎 李昱

    IPC分类号: G02B5/20 G02B1/11

    摘要: 本发明公开了一种窄带滤光片的切割方法,针对窄带滤光片如LWDM滤光片和DWDM滤光片等,由于其膜层厚度厚,应力大,在传统的切割方式下,会造成大量的崩边和侧垂不良等问题。本发明通过添加第一切割槽的划切,使得原本窄带滤光片的弧形变小,使得在成品切割过程中,优化切割刀片与窄带滤光片的垂直度;通过添加UV膜划切,将窄带滤光片的过滤膜面进行破膜,降低了整个大片的应力影响,降低由于应力带来的弧形影响;在第二次划切过程中仅划切膜层,而没有将膜层切透,释放了膜层的应力对膜层基片的影响;且通过添加AR膜面的切割,将最终的过滤膜片切割时带来的窄带滤光片破片带来的崩边影响降低,从而减少现有技术中一次划切造成的崩边和侧垂问题。

    光栅片及其制作方法、可见光窄带滤光片的制作方法

    公开(公告)号:CN116661039A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202310683253.2

    申请日:2023-06-09

    发明人: 苏炎 李昱

    IPC分类号: G02B5/18 G02B5/28

    摘要: 本发明公开了光栅片,属于光学元件,包括基片,基片上设有多层高折射率膜层和低折射率膜层交替堆叠而成的膜系形成法布里‑帕罗腔结构,膜系结构为(HL)^n(LH)^n‑1L0.66H 0.66L,其中H为高折射率膜层,L为低折射率膜层,H、L的厚度为1/4波长光学厚度,7≤n≤10。本发明还涉及上述光栅片的制备方法以及采用上述光栅片进行光控的可见光窄带滤光片的制作方法。

    一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法

    公开(公告)号:CN112230322B

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202011049798.0

    申请日:2020-09-29

    发明人: 苏炎 李昱 陈居凯

    摘要: 本发明提供一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法,包括:切割基层成型;镀前对基层进行超声波清洗;进行膜系设计;其中,膜系设计中堆叠在基层上的膜系的膜系结构包括若干个法布里‑帕罗腔及连接层,每个法布里‑帕罗腔通过连接层级联下一个法布里‑帕罗腔,连接层为非四分之一波长的光学厚度的低折射率层;根据膜系设计对每一膜层进行膜层厚度控制并镀膜;对镀制好的带通滤光片进行测试得到合格的带通滤光片。本发明能够制备插损线性变化的带通滤光片,该带通滤光片具备常规的滤光功能以外,该带通滤光片的通带插损或透过率具有线性变化,在通带内实现了在特定的波长范围内插损随波长是线性变化的,在特定的波长范围内实现波长识别的功能。

    一种具有温度补偿功能的激光器组件

    公开(公告)号:CN113972559A

    公开(公告)日:2022-01-25

    申请号:CN202111251913.7

    申请日:2021-10-26

    发明人: 李昱 苏炎 陈居凯

    IPC分类号: H01S5/12 H01S5/026

    摘要: 本发明公开了一种具有温度补偿功能的激光器组件包括DFB激光器和线性滤光片;线性滤光片的透过率或插损与波长存在线性关系;DFB激光器在不同温度下输出不同的波长,不同波长下输出不同的功率值,针对DFB激光器,选择对应的线性滤光片安装在DFB激光器之前。本发明中线性滤光片的插损或透射率随波长是线性变化的,DFB激光器由于发热等问题造成的温漂效应使得DFB激光器输出的波长发生变化,DFB激光器的透过率或插损随波长而变化,从而引起DFB激光器在不同波长下的输出功率发生线性变化。通过添加在特定的波长范围内插损或透射率随波长线性变化的线性滤光片,可弥补温度变化对DFB激光器所造成的影响,使得DFB激光器在不同温度下的输出功率实现恒定输出。

    转折结构的自由空间多路波分复用装置及方法

    公开(公告)号:CN113960719A

    公开(公告)日:2022-01-21

    申请号:CN202111245974.2

    申请日:2021-10-26

    发明人: 李昱 苏炎 陈居凯

    IPC分类号: G02B6/293

    摘要: 本发明公开了一种转折结构的自由空间多路波分复用装置,包括输入准直器、底层输出准直器组件、底层分光组件、转折棱镜、顶层分光组件及顶层输出准直器组件;底层分光组件包括一双带通滤光膜片。本发明通过双带通滤光膜片将四个通道的光分为两路光路,透射光经转折棱镜反射至顶层分光组件中,在顶层分光组件经两个顶层输出准直器输出;反射光在底层分光组件中,在底层分光组件经两个底层输出准直器输出;利用反射原理形成自由空间的多路波分复用器,将四个通道的光经四个输出准直器输出。在最长光程的通道比传统串联波分复用装置相比,经过的带通滤光片数量减少,插损性能有所提升。

    一种带通滤光片的制备方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112226729A

    公开(公告)日:2021-01-15

    申请号:CN202011049791.9

    申请日:2020-09-29

    发明人: 苏炎 李昱 陈居凯

    摘要: 本发明提供带通滤光片的制备方法,包括镀膜前对未镀膜的空白基片进行抛光处理并超声波清洗;在基片上镀膜并对每一膜层进行膜层厚度控制;镀膜的膜系结构包括若干个法布里‑帕罗腔及连接层;连接层为非四分之一波长的光学厚度的低折射率层;镀膜后进行超声波清洗;检验得到合格的带通滤光片。本发明在膜系结构和膜层厚度以及监控方式上进行了改进,根据膜系结构多次实验选择合适的监控方法,可制备高精度的插损线性变化的带通滤光片,该带通滤光片的通带插损或透过率具有线性变化,在通带内实现了在特定的波长范围内插损随波长是线性变化的,在特定的波长范围内实现波长识别的功能。

    一种激光偏振合束系统
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112130339A

    公开(公告)日:2020-12-25

    申请号:CN202011049823.5

    申请日:2020-09-29

    发明人: 苏炎 李昱 陈居凯

    IPC分类号: G02B27/28 G02B5/30

    摘要: 本发明提供激光偏振合束系统,至少两个光束发射器、至少两个光束调整装置及超宽带的偏振分光片;偏振分光片包括基层和堆叠在基层上的膜系,膜系的膜系结构包括第一膜堆、第二膜堆及第三膜堆,每个膜堆均由非四分之一波长光学厚度的高折射率膜层和低折射率膜层交替堆叠;至少两个光束发射器发射的光束经光束调整装置反射后入射于偏振分光片,偏振分光片进行激光合束得到高功率、高光束质量的激光输出光源。本发明能够将偏振分光的范围由百分之八的中心波长范围扩展到百分之十的中心波长,使得在大角度的应用下,有更好的偏振分离,更好的耦合效率,更宽的透射带宽,能够实现更宽的带宽带来更高的效率和亮度,实现更宽范围的不同波长的合束。

    一种镀膜厚度测量方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116815148A

    公开(公告)日:2023-09-29

    申请号:CN202310594401.3

    申请日:2023-05-24

    IPC分类号: C23C14/54 G01B11/06

    摘要: 本发明公开了一种镀膜厚度测量方法,属于真空镀膜技术领域,通过对基片待镀膜面的背面进行铣磨,使背面形成带角度的凹槽以破坏基片的平行度,然后对基片待镀膜面进行镀膜,镀膜过程中激光对镀膜厚度进行光学监控时,基片两个面不平行,不会导致干涉现象,避免激光光控的信号干涉问题,使镀膜膜层的厚度测量更加准确。

    一种镀膜厚度直接式光学监控测量方法

    公开(公告)号:CN116657083A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202310593803.1

    申请日:2023-05-24

    IPC分类号: C23C14/02 C23C14/54 G01B11/06

    摘要: 本发明公开了一种镀膜厚度直接式光学监控测量方法,属于真空镀膜技术领域,通过对基片待镀膜面的背面进行磨砂处理,然后对基片待镀膜面进行镀膜,镀膜过程中激光对镀膜厚度进行光学监控时,激光出射光散射匀化,从而消除法布里‑帕罗腔的形成,避免激光光控的信号干涉问题,使镀膜膜层的厚度测量更加准确。