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公开(公告)号:CN109439329A
公开(公告)日:2019-03-08
申请号:CN201811270341.5
申请日:2018-10-29
申请人: 苏州博洋化学股份有限公司
IPC分类号: C09K13/08 , H01L21/306
摘要: 本发明涉及平板显示阵列制程用新型IGZO蚀刻液,按重量百分比算,包括硫酸1-10%、硝酸0.5-10%、醋酸0.5-10%、氟化物0.1-0.6%、表面活性剂5ppm-1000ppm和余量超纯水。本发明蚀刻液对新型的耐蚀型IGZO材料起到很好的蚀刻作用,蚀刻率高、侧刻量小、无蚀刻残留,符合量产工艺要求。
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公开(公告)号:CN109233837A
公开(公告)日:2019-01-18
申请号:CN201811269095.1
申请日:2018-10-29
申请人: 苏州博洋化学股份有限公司
IPC分类号: C09K13/06 , H01L21/306
摘要: 本发明涉及面板显示阵列制程用新型草酸系ITO蚀刻液,以重量百分比计算,包括3.2-3.6%的草酸、5ppm-900ppm的表面活性剂和余量的超纯水。本发明选用新型的表面活性剂,该表面活性剂降低了表面张力以达到对微晶的控制;同时没有其他任何负面作用,微观细节的控制也更优;同时无稳定泡沫存在,3-10s完全自消泡,消除了泡沫对蚀刻的影响,提高了产品良率。
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