一种高纯度硫酸铜提取工艺

    公开(公告)号:CN106745182A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201710111009.3

    申请日:2017-02-28

    CPC classification number: C01G3/10 C01P2006/80

    Abstract: 本发明属于化学制剂技术领域,涉及一种高纯度硫酸铜提取工艺,步骤包括过去离子水溶解,硫酸酸化,双氧水氧化,氢氧化铜调pH,用聚合硫酸铝和硅藻土吸附溶液中的杂质,精滤后蒸发结晶,减压烘干得到高纯度硫酸铜晶体。本工艺能够获得纯度达99.9%以上的高纯度硫酸铜,残留水不溶物极少,在精密电子行业使用具有更好的市场竞争力。

    一种低凝点磷酸
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106882775A

    公开(公告)日:2017-06-23

    申请号:CN201710144389.0

    申请日:2017-03-10

    CPC classification number: C01B25/18

    Abstract: 本发明属于化学制剂技术领域,涉及一种低凝点磷酸,配方包括75~80wt%磷酸、0.1~3wt%甲醇、0.1~3wt%乙二醇和余量的去离子水。本磷酸在保证有效浓度的前提下令凝固点能够降低到0℃以下,常温状态粘度低于80%磷酸近一半,能够保持更好的流动性,适应高科技行业中的使用需求。

    一种铝蚀刻剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN105970225B

    公开(公告)日:2018-07-13

    申请号:CN201610510486.2

    申请日:2016-07-01

    Abstract: 本发明属于化学制剂技术领域,涉及一种铝蚀刻剂及其制备方法,其中铝蚀刻剂配方包括磷酸70~78wt%,硝酸5~6wt%,乙酸6~10wt%,氨基磺酸1~5wt%,其余为水。本发明铝蚀刻液可以将金属化合物转化为可溶性盐类溶于水中,对不同金属的蚀刻速度基本一致,反应稳定,避免沉淀附着影响蚀刻效率和基板表面整洁,方便去除表面污垢。

    一种高纯度己二酸提取工艺

    公开(公告)号:CN106905139B

    公开(公告)日:2020-10-02

    申请号:CN201710091555.5

    申请日:2017-02-20

    Abstract: 本发明属于化学制剂技术领域,涉及一种高纯度己二酸提取工艺,步骤包括将粗己二酸溶于无水乙醇,活性炭脱色,过滤,加去离子水蒸出部分乙醇水共沸物,搅拌结晶,离心至干,真空干燥,得到高纯度己二酸。本工艺实现了己二酸的高精提纯,打破了进口己二酸对高技术市场的垄断。

    一种抑雾硫酸
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106835154A

    公开(公告)日:2017-06-13

    申请号:CN201710113835.1

    申请日:2017-02-28

    CPC classification number: C23G1/02 C23C22/06 C23F11/04

    Abstract: 本发明属于化学制剂技术领域,涉及一种抑雾硫酸,配方包括75~80wt%硫酸、0.1~2wt%六甲基四胺、2~3wt%十二烷基苯磺酸钠、0.9~1wt%柠檬酸和余量的去离子水。本抑雾硫酸不仅能够达到很好的抑雾效果,降低挥发污染,节约挥发损失,而且能够减缓过腐蚀的发生,更加经济和环保,能够在某些高精尖技术领域推广使用。

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