一种亚波长光栅结构偏振片及其制作方法

    公开(公告)号:CN101290371A

    公开(公告)日:2008-10-22

    申请号:CN200810123710.8

    申请日:2008-05-30

    IPC分类号: G02B5/30 G03F7/00

    摘要: 本发明公开了一种亚波长光栅结构偏振片,包括透明基底、介质光栅、第一金属层和第二金属层,所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽,所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部,所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中,介质光栅的周期小于入射光波长,其特征在于:在所述透明基底和介质光栅之间,设有高折射率介质层,所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。通过在透明基底和介质光栅之间增加高折射率介质层,提高了偏振片的TM光的透射效率和消光比。在整个可见光波段,该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。在工艺上,采用纳米压印技术加工制作,制作过程简便易操作,不需要刻蚀工艺,降低了加工成本。

    一种亚波长埋入式光栅结构偏振片及其制作方法

    公开(公告)号:CN101377555B

    公开(公告)日:2011-05-04

    申请号:CN200810156773.3

    申请日:2008-09-26

    IPC分类号: G02B5/30 G03F7/20

    摘要: 本发明公开了一种亚波长埋入式光栅结构偏振片,包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层,所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽,所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部,所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中,介质光栅的周期小于入射光波长,其特征在于:在所述第一金属层和第二金属层的顶部上表面覆盖有介质覆盖层,在所述透明基底和介质光栅之间设有高折射率介质层,所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。介质覆盖层既可以对偏振片的透射效率起调制作用,又可以起到保护金属层的作用,防止金属层被氧化和在集成过程中被破坏;在整个可见光波段,该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。

    一种亚波长埋入式光栅结构偏振片及其制作方法

    公开(公告)号:CN101377555A

    公开(公告)日:2009-03-04

    申请号:CN200810156773.3

    申请日:2008-09-26

    IPC分类号: G02B5/30 G03F7/20

    摘要: 本发明公开了一种亚波长埋入式光栅结构偏振片,包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层,所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽,所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部,所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中,介质光栅的周期小于入射光波长,其特征在于:在所述第一金属层和第二金属层的顶部上表面覆盖有介质覆盖层,在所述透明基底和介质光栅之间设有高折射率介质层,所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。介质覆盖层既可以对偏振片的透射效率起调制作用,又可以起到保护金属层的作用,防止金属层被氧化和在集成过程中被破坏;在整个可见光波段,该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。

    一种衍射变色激光打标方法与装置

    公开(公告)号:CN101135776A

    公开(公告)日:2008-03-05

    申请号:CN200710153957.X

    申请日:2007-09-13

    摘要: 本发明公开了一种衍射变色激光打标方法及其装置,采用大功率半导体泵浦固体激光器作为光源,激光束满足干涉要求,由分束元件产生分束光,通过光学透镜组将光点会聚到材料表面,形成均匀干涉条纹光场,在材料表面位置激光功率密度超过材料损伤阈值,以形成干涉条纹刻蚀,通过扫描控制,实现衍射光变色图形的打标。所述的装置,采用由光源、光束整形器和干涉光学系统构成的干涉型光学头,形成的干涉条纹光场位于放置在所述运动平台的待打标材料表面。本发明可以避免陨石坑效应,提高图像的分辨率;获得衍射变色的激光打标图样。

    一种反射式成像薄膜
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113687522B

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN202110983747.3

    申请日:2021-08-25

    申请人: 苏州大学

    发明人: 申溯 周云

    IPC分类号: G02B30/00

    摘要: 本发明涉及一种反射式成像薄膜,包括:透明间隔层,透明间隔层包括第一表面及相背设置的第二表面;微聚焦元件阵列层,微聚焦元件阵列层设在第一表面,微聚焦元件阵列层至少包括三个微聚焦单元;反射层,反射层覆盖在微聚焦元件阵列层的外表面,微聚焦元件阵列层与反射层构成反射式微聚焦层;微图文层,其设置在第二表面,微图文层至少包括三个微图文单元,每个微图文单元皆不同,微图文层由虚拟立体图像整体的部分裁切经过反射式微聚焦层的投影成像获得;其中,通过透明间隔层可以观测到具有连续视差及遮挡关系的立体图像。其通过反射式微聚焦层与微图文层共同作用,提供了全视场、密集视点的真立体图像。

    一种隐藏式立体成像薄膜

    公开(公告)号:CN111572235B

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN202010436448.3

    申请日:2020-05-21

    申请人: 苏州大学

    发明人: 申溯 周云

    摘要: 本发明公开了一种隐藏式立体成像薄膜,包括:透明间隔层,其包括第一表面及相背而对设置的第二表面;微图文阵列层,其设置于透明间隔层的第一表面,所述微图文阵列层由多个微图文单元组成;微聚焦元件阵列层,其设置于透明间隔层的第二表面,微聚焦元件阵列层由多个微聚焦元件单元组成;反射层,其位于微聚焦元件阵列层表面;当沿所述透明间隔层表面的法线方向观察时,所述微图文阵列层的图像信息被隐藏,当偏离透明间隔层表面的法线方向观察时,能够观察到微图文阵列层的立体图像信息。其具有隐藏信息的效果,防伪性能更强,辨识度更高。

    一种微透镜镜组阵列系统及制备方法

    公开(公告)号:CN108333650B

    公开(公告)日:2020-06-02

    申请号:CN201810087735.0

    申请日:2018-01-30

    申请人: 苏州大学

    发明人: 申溯 吴峰 周云

    IPC分类号: G02B3/00

    摘要: 本发明公开了一种微透镜镜组阵列系统及其制备方法,其特征在于,其包括:承载体;微透镜镜组阵列层,所述承载体表面至少设有两组微透镜镜组阵列层,所述微透镜镜组阵列层包括若干微透镜,且至少一组微透镜镜组阵列层表面设有聚合物材料,所述聚合物材料与所述微透镜镜组阵列层的材料折射率之差绝对值为0.01~0.3;其中,一所述微透镜镜组阵列层中的微透镜与另一所述微透镜镜组阵列层中的微透镜相互对准,且所述对准误差不大于微透镜开口口径的10%。本发明提出一种微透镜镜组阵列系统,其有若干光学功能面,不易被测量和复制;并且,光学性能不受污染物的影响;采用的压印和填充方法,制备效率高,因而适合制作大幅面微透镜阵列薄膜器件。

    一种彩色立体莫尔成像光学装置

    公开(公告)号:CN109445003A

    公开(公告)日:2019-03-08

    申请号:CN201811553001.3

    申请日:2018-12-18

    申请人: 苏州大学

    发明人: 申溯 郑伟伟 周云

    IPC分类号: G02B3/00 G02B3/08 G02B27/22

    摘要: 本发明公开了彩色立体成像光学装置,包括微图文层,所述微图文层包括阵列排布的透明微图文单元,所述透明微图文单元与透明微图文单元之间设置有不透明背景层;背光模组,其位于微图文层的一侧,所述背光模组为微图文层提供均匀的光照;微聚焦层,其位于微图文层的另一侧,所述微聚焦层包括阵列排布的微聚焦单元,所述微聚焦层与所述微图文层之间设置有间隔层;通过所述微聚焦层能够裸眼观测到立体的、彩色的、放大的微图文图像。其能够形成彩色立体图像,裸眼可看,宽视场,立体感逼真,在立体成像和显示领域具有应用前景。