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公开(公告)号：CN111665625A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201910169899.2
申请日：2019-03-07
申请人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
摘要： 本发明提供了一种双片波导镜片及三维显示装置，其中所述双片波导镜片包含两片波导镜片单元，所述波导镜片单元均包括波导，所述波导上设置有入射功能性区域和出射功能性区域，所述入射功能性区域内设置有耦入衍射光栅，所述出射功能性区域内设置有出射衍射光栅。其中一片波导镜片单元用于调控具有第一波长的光信号，另一片波导镜片单元用于调控至少两种不同于所述第一波长的其他波长的光信号。本发明能够将光损耗控制在合理的范围内，并降低了不同波长的图像光之间的串扰，同时其还降低了波导镜片的制备难度。
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公开(公告)号：CN209821502U
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201920284865.3
申请日：2019-03-07
申请人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
摘要： 本实用新型提供了一种双片波导镜片及三维显示装置，其中所述双片波导镜片包含两片波导镜片单元，所述波导镜片单元均包括波导，所述波导上设置有入射功能性区域和出射功能性区域，所述入射功能性区域内设置有耦入衍射光栅，所述出射功能性区域内设置有出射衍射光栅。其中一片波导镜片单元用于调控具有第一波长的光信号，另一片波导镜片单元用于调控至少两种不同于所述第一波长的其他波长的光信号。本实用新型能够将光损耗控制在合理的范围内，并降低了不同波长的图像光之间的串扰，同时其还降低了波导镜片的制备难度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN114409935B
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN202111605072.5
申请日：2021-12-24
申请人： 苏州大学
摘要： 本发明属于压电材料技术领域，具体涉及一种基于挠曲电效应的压电聚合物膜及其制备方法。该制备方法是通过在压电聚合物膜的成膜过程中于膜的一侧或双侧表面引入具有非中心对称形状的微纳米结构，并保持非中心对称形状微纳米结构的尺寸和形状直至根据压电聚合物膜的制造结束来进行。本发明通过一步就可制备压电聚合物薄膜，无需严格控制含氟树脂中β相晶体的形成和含量，也无需控制分子链和晶体的取向，简化了生产工艺流程，提高了生产效率，降低了成本，有利于实现大规模工艺化生产。
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公开(公告)号：CN114409935A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202111605072.5
申请日：2021-12-24
申请人： 苏州大学
摘要： 本发明属于压电材料技术领域，具体涉及一种基于挠曲电效应的压电聚合物膜及其制备方法。该制备方法是通过在压电聚合物膜的成膜过程中于膜的一侧或双侧表面引入具有非中心对称形状的微纳米结构，并保持非中心对称形状微纳米结构的尺寸和形状直至根据压电聚合物膜的制造结束来进行。本发明通过一步就可制备压电聚合物薄膜，无需严格控制含氟树脂中β相晶体的形成和含量，也无需控制分子链和晶体的取向，简化了生产工艺流程，提高了生产效率，降低了成本，有利于实现大规模工艺化生产。
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公开(公告)号：CN209248249U
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201822127597.2
申请日：2018-12-18
申请人： 苏州大学
摘要： 本实用新型公开了一种用于制作超透镜的干涉光刻系统，包括光源、空间过滤单元、4F光学系统和光波调制单元，空间过滤单元设置于4F光学系统之前，所述4F光学系统包括沿光路依次设置的第一透镜和第二透镜，所述光波调制单元设置于所述第一透镜和第二透镜之间，该光波调制单元通过对子波面调制，在系统的后焦面上形成环形或圆形的干涉图案。本系统可利用几次干涉曝光制备出“圆+多环”的聚焦超表面结构，效率高、造价低、易完成大幅面的结构制备。
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公开(公告)号：CN209167573U
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201822127510.1
申请日：2018-12-18
申请人： 苏州大学
摘要： 本实用新型公开了一种用于制作超透镜的干涉光刻系统，包括光源、空间过滤单元、4F光学系统和光波调制单元，所述4F光学系统包括沿光路依次设置的第一透镜和第二透镜，所述光波调制单元设置于所述第一透镜和第二透镜之间，该光波调制单元通过对子波面调制，在系统的后焦面上形成干涉图案；所述空间过滤单元设置于4F光学系统之后，用于限制干涉图案的成像区域，形成圆形或环形图案。本系统具有无视差、误差或渐晕(边缘处的亮度降低)和纳米结构图案化的灵活性的特点，且效率高、成本低、幅面大，制备超透镜图案的简单易行。
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