公开(公告)号：CN104250687B

公开(公告)日：2018-01-30

申请号：CN201410223350.4

申请日：2014-05-26

Applicant: 苹果公司

Inventor： S·R.·兰开斯特-拉罗克 ,  C·钱 ,  植村贤介 ,  P·哈雷罗

IPC: C21D10/00

CPC classification number: B23K15/00 ,  B23K15/02 ,  B23K20/122 ,  H01J37/05 ,  H01J37/305 ,  H01J2237/05

Abstract: 公开了一种电子束调节。所描述的实施例一般地涉及调整输出或电子束的调节。更具体而言，公开了涉及将入射到工件的电子束的足迹保持在所限定的能量水平内的各种构造。这样的构造允许电子束仅将工件的特定部分加热到在其中金属间化合物分解的过热状态。在一个实施例中，公开了阻止电子束的低能量部分接触工件的掩模。在另一个实施例中，电子束可以用将电子束保持在一能量水平以使得基本所有的电子束在阈值能量水平之上的方式被聚焦。

公开(公告)号：CN104250687A

公开(公告)日：2014-12-31

申请号：CN201410223350.4

申请日：2014-05-26

Applicant: 苹果公司

Inventor： S·R.·兰开斯特-拉罗克 ,  C·钱 ,  植村贤介 ,  P·哈雷罗

IPC: C21D10/00

CPC classification number: B23K15/00 ,  B23K15/02 ,  B23K20/122 ,  H01J37/05 ,  H01J37/305 ,  H01J2237/05

Abstract: 本发明公开了一种电子束调节。所描述的实施例一般地涉及调整输出或电子束的调节。更具体而言，公开了涉及将入射到工件的电子束的足迹保持在所限定的能量水平内的各种构造。这样的构造允许电子束仅将工件的特定部分加热到在其中金属间化合物分解的过热状态。在一个实施例中，公开了阻止电子束的低能量部分接触工件的掩模。在另一个实施例中，电子束可以用将电子束保持在一能量水平以使得基本所有的电子束在阈值能量水平之上的方式被聚焦。

公开(公告)号：CN203833984U

公开(公告)日：2014-09-17

申请号：CN201420271741.9

申请日：2014-05-26

Applicant: 苹果公司

Inventor： S·R.·兰开斯特-拉罗克 ,  C·钱 ,  植村贤介 ,  P·哈雷罗

IPC: C21D10/00

CPC classification number: B23K15/00 ,  B23K15/02 ,  B23K20/122 ,  H01J37/05 ,  H01J37/305 ,  H01J2237/05

Abstract: 本公开一般地涉及电子束调节系统、电子束处理装置与系统。一种用于电子束处理金属工件的表面部分的系统包括配置为发射具有第一能量分布的电子束的电子束发射器，以及设置在所述电子束发射器和所述金属工件之间并对由所述电子束发射器发射的电子束起作用以将所述第一能量分布改变为第二能量分布的机构，其中，所述第二能量分布被限制于将所述金属工件的表面部分保持在与预先选择的金属相相对应的温度范围内的电子束能量范围。本公开的一个实施例解决的一个技术问题是如何可靠地从金属工件的表面区域移除金属间化合物。