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    低膨胀陶瓷坯料、低膨胀陶瓷岩板及其制备方法与应用
    2.
    发明公开
    低膨胀陶瓷坯料、低膨胀陶瓷岩板及其制备方法与应用 审中-实审

    公开(公告)号：CN116813305A

    公开(公告)日：2023-09-29

    申请号：CN202310613173.X

    申请日：2023-05-29

    申请人： 蒙娜丽莎集团股份有限公司

    发明人： 潘利敏 ,  程科木 ,  聂光临 ,  吴洋 ,  黎志升

    IPC分类号： C04B33/13 ,  C04B33/34 ,  C04B41/89 ,  C03C8/00

    摘要： 本发明涉及低膨胀陶瓷坯料、低膨胀陶瓷岩板及其制备方法与应用。所述低膨胀陶瓷坯料的原料组成包括：以质量百分含量计，粘土：30‑45％，堇青石熟料粉：20‑45％，烧滑石：1‑5％，镁质粘土：1‑5％，B低温熔块：15‑25％，含P熔剂：1‑5％；所述低膨胀陶瓷坯料的化学组成包括：以质量百分含量计，IL：4‑6％、SiO2：45‑50％、Al2O3：25‑32％、Fe2O3：0.1‑0.5％、TiO2：0.1‑0.5％、CaO：1‑3％、MgO：9‑12％、K2O：0.5‑1％、Na2O：0.1‑0.5％、B2O3：1‑3％、P2O5：1‑2％。

    一种暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖及制备方法
    7.
    发明公开
    一种暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖及制备方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN115583844A

    公开(公告)日：2023-01-10

    申请号：CN202211293776.8

    申请日：2022-10-21

    申请人： 蒙娜丽莎集团股份有限公司

    发明人： 潘利敏 ,  覃增成 ,  杨元东 ,  范周强 ,  张克林 ,  黄秋立

    IPC分类号： C04B41/89 ,  C03C8/00 ,  C03C8/04

    摘要： 本发明公开一种暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖及制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在砖坯表面施作为颜色面釉的第一面釉；在施第一面釉后的砖坯表面喷墨打印油性墨水；在喷墨打印油性墨水后的砖坯表面施作为高白面釉的第二面釉；第二面釉被油性墨水拨开的位置露出第一面釉的暗色底色，第二面釉未被油性墨水拨开的位置由于第一面釉和第二面釉的叠加呈现高白效果，拨开结合暗色底色和高白效果的配色对此呈现立体的暗雕层次；在施第二面釉后的砖坯表面施透明釉促使透明釉覆盖在面釉层的剥开位置而具有亮面的仿真雕刻装饰；将施透明釉后的砖坯干燥，烧成，抛光，得到所述暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖。

    岩板热弯炉及对岩板进行热弯处理的方法
    8.
    发明授权
    岩板热弯炉及对岩板进行热弯处理的方法 有权

    公开(公告)号：CN114646218B

    公开(公告)日：2022-10-25

    申请号：CN202210544277.5

    申请日：2022-05-19

    申请人： 蒙娜丽莎集团股份有限公司

    发明人： 潘利敏 ,  李惠文 ,  胡志斌 ,  覃增成

    IPC分类号： F27B17/00 ,  F27D9/00 ,  F27D11/02 ,  F27D19/00 ,  C04B41/80

    摘要： 本发明属于岩板加工技术领域，公开一种岩板热弯炉及对岩板进行热弯处理的方法。所述岩板热弯炉包括：炉盖，配置为隔热板形式，在所述隔热板上设置有与炉腔连通的气体通道；吹风组件，设置于炉体外部，和炉盖的气体通道相连通，以向炉腔内提供空气流；加热装置，包含固定地设置于炉体内壁以调节炉腔环境温度的第一加热装置，以及沿炉体的垂直方向和/或水平方向移动以调节岩板待热弯处理部位局部受热温度的第二加热装置。所述岩板热弯炉不仅可以降低能耗，减少冷却时间，而且制备的热弯岩板弯曲弧度符合设计要求，与模具贴合度高，不会影响岩板的表面平整度和颜色装饰。