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发明公开
一种低金属离子含量硼改性酸性硅溶胶的制备方法审中-实审

公开(公告)号：CN116143131A

公开(公告)日：2023-05-23

申请号：CN202310192427.5

申请日：2023-03-02

申请人： 衢州博来纳润电子材料有限公司 , 上海映智研磨材料有限公司

发明人： 周海耀 , 韩婷婷 , 丁洁琼 , 张佳佳

IPC分类号： C01B33/146 , B82Y30/00 , B82Y40/00

摘要： 一种低金属离子含量硼改性酸性硅溶胶的制备方法，其特征在于包括以下步骤：a、将硼改性剂溶液与硅酸钠溶液混合均匀，b、将混合溶液经阳离子树脂交换得到硼掺杂硅酸溶液，c、将硅酸溶液滴加至碱溶液中进行纳米二氧化硅粒子的成核及生长，d、硅酸溶液滴完后保温一段时间；e、对所得硅溶胶进行浓缩，得到硼改性硅溶胶；f、使用有机酸调节硼改性硅溶胶得到低金属离子含量硼改性酸性硅溶胶。本发明具有粒子合成过程中进行硼原位改性二氧化硅粒子，有机酸调节硅溶胶可制备不同粒径均匀稳定的低金属离子含量硼改性酸性硅溶胶和有效控制酸性硅溶胶的金属离子含量、工艺简单、易于大规模生产的优点。