公开(公告)号：CN102778426B

公开(公告)日：2014-05-28

申请号：CN201210222976.4

申请日：2012-06-29

Applicant: 西北核技术研究所

Inventor： 赵学庆 ,  郑国鑫 ,  白婷 ,  薛全喜 ,  肖伟伟

IPC: G01N17/00

Abstract: 本发明公开了一种光学薄膜激光损伤测试装置，包括光功率能量测量仪和在激光器和待测镀膜镜片之间依次设置的孔阑、第一透镜、光衰减器、取样分束镜和聚焦透镜；其中孔阑设置在第一透镜的前焦面上，待测镀膜镜片设置在聚焦透镜的后焦面上；取样分束镜的透射光入射至聚焦透镜，反射光入射至光功率能量测量仪；该装置采用无限远显微成像方式，获得像面均匀辐照，并实现了大范围可调光学衰减，容易调节获得所需光斑大小，满足高功率准分子激光系统对薄膜损伤的测试要求。

公开(公告)号：CN102778426A

公开(公告)日：2012-11-14

申请号：CN201210222976.4

申请日：2012-06-29

Applicant: 西北核技术研究所

Inventor： 赵学庆 ,  郑国鑫 ,  白婷 ,  薛全喜 ,  肖伟伟

IPC: G01N17/00

Abstract: 本发明公开了一种光学薄膜激光损伤测试装置，包括光功率能量测量仪和在激光器和待测镀膜镜片之间依次设置的孔阑、第一透镜、光衰减器、取样分束镜和聚焦透镜；其中孔阑设置在第一透镜的前焦面上，待测镀膜镜片设置在聚焦透镜的后焦面上；取样分束镜的透射光入射至聚焦透镜，反射光入射至光功率能量测量仪；该装置采用无限远显微成像方式，获得像面均匀辐照，并实现了大范围可调光学衰减，容易调节获得所需光斑大小，满足高功率准分子激光系统对薄膜损伤的测试要求。